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金属-电介质多层膜结构亚波长成像特性分析(英文)
被引量:
1
1
作者
郑改革
蒋立勇
+1 位作者
强海霞
李相银
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第8期2011-2014,共4页
分析了由Ag和Si3N4多层纳米薄膜组成的特异材料的模式特性,使用本征模展开法(EME)结合完全匹配层(PML)边界条件模拟了该结构的亚波长成像行为,在法布里-珀罗(Fabry-Perot)条件(结构的长度是半波长的整数倍)条件下,研究发现邻近系统的点...
分析了由Ag和Si3N4多层纳米薄膜组成的特异材料的模式特性,使用本征模展开法(EME)结合完全匹配层(PML)边界条件模拟了该结构的亚波长成像行为,在法布里-珀罗(Fabry-Perot)条件(结构的长度是半波长的整数倍)条件下,研究发现邻近系统的点源会在另一侧成实像,这种成像基于自准直而并不是负折射.研究结果证实了金属-电介质多层膜结构可以在光波段实现近场成像.
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关键词
亚波长成像
自准直
金属-电介质多层膜
本征模展开法
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职称材料
题名
金属-电介质多层膜结构亚波长成像特性分析(英文)
被引量:
1
1
作者
郑改革
蒋立勇
强海霞
李相银
机构
南京理工大学理学院
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第8期2011-2014,共4页
文摘
分析了由Ag和Si3N4多层纳米薄膜组成的特异材料的模式特性,使用本征模展开法(EME)结合完全匹配层(PML)边界条件模拟了该结构的亚波长成像行为,在法布里-珀罗(Fabry-Perot)条件(结构的长度是半波长的整数倍)条件下,研究发现邻近系统的点源会在另一侧成实像,这种成像基于自准直而并不是负折射.研究结果证实了金属-电介质多层膜结构可以在光波段实现近场成像.
关键词
亚波长成像
自准直
金属-电介质多层膜
本征模展开法
Keywords
Subwavelength imaging Sself
-
collimation Metallodielectric nanofilms Eigen
-
mode expansion method
分类号
O411.3 [理学—理论物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
金属-电介质多层膜结构亚波长成像特性分析(英文)
郑改革
蒋立勇
强海霞
李相银
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009
1
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