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金孔阵列-电介质与金-电介质孔阵列的强透射特性 被引量:4
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作者 杨宏艳 肖功利 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第11期312-316,共5页
采用时域有限差分(FDTD)法研究了金膜厚度、电介质折射率及其厚度对金孔阵列-电介质与金-电介质孔阵列两种结构强透射特性的影响。研究发现这两种结构都具有较好的强透射特性,这表明光与金膜表面自由电子的电荷密度波耦合成表面等离子激... 采用时域有限差分(FDTD)法研究了金膜厚度、电介质折射率及其厚度对金孔阵列-电介质与金-电介质孔阵列两种结构强透射特性的影响。研究发现这两种结构都具有较好的强透射特性,这表明光与金膜表面自由电子的电荷密度波耦合成表面等离子激元(SPP),对增强透射起到了关键作用。金膜厚度是影响强透射特性的主要因素,其衰减长度为35nm;而与金膜相邻的电介质膜厚度对强透射特性影响极小。电介质折射率大小对强透射特性影响明显,折射率为1.8时能够获得较好的强透射特性。 展开更多
关键词 表面光学 阵列-电介质 金-电介质孔阵列 强透射特性 时域有限差分法
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