在LiCl熔盐中直接电还原制备钕硅合金

在973 K熔融LiCl盐中,利用恒电压直接电还原Nd2O3-SiO2与Nd2O3-Si两种混合氧化物,成功制备出钕硅合金.使用金属孔洞电极,通过循环伏安法结合不同条件下电解产物的X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和能量色散谱仪(EDS)分析研究了其还原机理.结果发现,Nd2O3-SiO2的还原过程分二步进行:首先SiO2还原为单质硅,然后Nd2O3被还原同时形成钕硅合金.此外,还研究了电解电压对电解过程的影响.结果发现,还原速率随着电解电压的增加而增加,氧化物中硅的原子含量为50%左右时,容易还原得到较纯的合金.据了解这是首次运用直接电解还原氧化物的方法得到钕硅合金.

Nd(Fe,Si)_(11)C_(1.5)永磁合金的中子与X射线衍射研究

用中子衍射和X射线衍射技术对配比成分为NdFe10 .5Si1.5C1.5的永磁合金样品的晶体结构和磁结构进行了研究。测定其为四方的BaCd11型结构 ,Si元素择优占据 8d替代晶位 ,C原子进入间隙的 8c晶位。