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反应溅射Ti-Si-N纳米晶复合薄膜研究
1
作者
戴嘉维
胡祖光
+2 位作者
祝新发
陈练
李戈扬
《电子显微学报》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期372-372,共1页
关键词
钛-硅-氮复合薄膜
纳米晶体
反应溅射法
透射电子显微镜
结构分析
下载PDF
职称材料
题名
反应溅射Ti-Si-N纳米晶复合薄膜研究
1
作者
戴嘉维
胡祖光
祝新发
陈练
李戈扬
机构
上海交通大学材料科学与工程学院
上海工具厂有限公司
出处
《电子显微学报》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期372-372,共1页
基金
上海市专利技术二次开发项目 (No .0 3 72 5 0 5 2 )
关键词
钛-硅-氮复合薄膜
纳米晶体
反应溅射法
透射电子显微镜
结构分析
分类号
TN304.05 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
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操作
1
反应溅射Ti-Si-N纳米晶复合薄膜研究
戴嘉维
胡祖光
祝新发
陈练
李戈扬
《电子显微学报》
CAS
CSCD
北大核心
2004
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职称材料
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