钠氟类硅烯插入R_H键(R=F,OH,NH_2,CH_3)反应的理论研究

用密度泛函方法研究了钠氟类硅烯插入 R_ H键 ( R=F,OH,NH2 ,CH3)的反应机理 . 4个反应的机制类似 ,反应经历了类硅烯的亲电接近、亲核插入和取代三个阶段之后 ,形成中间络合物 ,4个反应的势垒分别为 0 .9,61 .7,1 1 4.6和 1 90 .6k J/ mol(经零点能校正 ) .中间络合物可以解离为取代硅烷和 Na F,这是一个无过渡态的过程 .反应能分别是 -1 2 2 .6,-96.3 ,-6.8和 5 0 .2 k J/ mol.

钠卤类硅烯的结构与稳定性

本文用RHF/STO-3G解析梯度方法研究了钠卤类硅烯H_2SiNaX(X=F,C1)势能面的主要特征,得到了它们的几种平衡构型及其异构化的过渡态构型.与锂卤类硅烯相似,三元环构型和p-配合物构型是最稳定的构型;其它的两种构型—σ-配合物和经典“四面体”,也是势能面上的极值点,但能量相对较高、不稳定.文中对各构型的特点进行了分析.