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电化学方法制备铜钴纳米多层膜 被引量:3
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作者 薛江云 吴继勋 杨德钧 《电化学》 CAS CSCD 1996年第3期274-284,共11页
采用旋转圆盘电极、双脉冲电位法从单一的含有铜离子和钴离子的镀液中电沉积Cu-Co纳米多层膜、并用TEM.AES和X-射线衍射研究镀层的形貌和组成。结果表明:多层膜结构为纯铜和含有少量铜的铜钴合金层交替组成,铜在钴层中... 采用旋转圆盘电极、双脉冲电位法从单一的含有铜离子和钴离子的镀液中电沉积Cu-Co纳米多层膜、并用TEM.AES和X-射线衍射研究镀层的形貌和组成。结果表明:多层膜结构为纯铜和含有少量铜的铜钴合金层交替组成,铜在钴层中的含量,随镀液中的铜含量的增大和转速的提高而提高。 展开更多
关键词 电沉积 铜钴合金 钠米镀层 多层膜 镀液
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