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电化学方法制备铜钴纳米多层膜
被引量:
3
1
作者
薛江云
吴继勋
杨德钧
《电化学》
CAS
CSCD
1996年第3期274-284,共11页
采用旋转圆盘电极、双脉冲电位法从单一的含有铜离子和钴离子的镀液中电沉积Cu-Co纳米多层膜、并用TEM.AES和X-射线衍射研究镀层的形貌和组成。结果表明:多层膜结构为纯铜和含有少量铜的铜钴合金层交替组成,铜在钴层中...
采用旋转圆盘电极、双脉冲电位法从单一的含有铜离子和钴离子的镀液中电沉积Cu-Co纳米多层膜、并用TEM.AES和X-射线衍射研究镀层的形貌和组成。结果表明:多层膜结构为纯铜和含有少量铜的铜钴合金层交替组成,铜在钴层中的含量,随镀液中的铜含量的增大和转速的提高而提高。
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关键词
电沉积
铜钴合金
钠米镀层
多层膜
镀液
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职称材料
题名
电化学方法制备铜钴纳米多层膜
被引量:
3
1
作者
薛江云
吴继勋
杨德钧
机构
北京科技大学表面科学与腐蚀工程系
出处
《电化学》
CAS
CSCD
1996年第3期274-284,共11页
基金
冶金部腐蚀与磨损开放实验室资助
文摘
采用旋转圆盘电极、双脉冲电位法从单一的含有铜离子和钴离子的镀液中电沉积Cu-Co纳米多层膜、并用TEM.AES和X-射线衍射研究镀层的形貌和组成。结果表明:多层膜结构为纯铜和含有少量铜的铜钴合金层交替组成,铜在钴层中的含量,随镀液中的铜含量的增大和转速的提高而提高。
关键词
电沉积
铜钴合金
钠米镀层
多层膜
镀液
Keywords
Electro-deposition,Copper-Cobalt alloy,Multilayer
分类号
TQ153.2 [化学工程—电化学工业]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
电化学方法制备铜钴纳米多层膜
薛江云
吴继勋
杨德钧
《电化学》
CAS
CSCD
1996
3
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