钠铁硅系统玻璃形成区和磁化率的研究

研究了钠铁硅系统玻璃的形成区和磁化率 .结果证明 :(1 )在一定实验条件下 ,钠铁硅系统玻璃形成区的范围是 :x(Na2 O) =0～ 52 % ;x(Fe2 O3) =0～ 2 0 % ;x(SiO2 ) =48%～ 1 0 0 % .(2 )钠铁硅系统玻璃的磁化率不仅与Fe2 O3的含量有关 ,而且与Fe3+在玻璃中的结构地位有关 .当Fe3+处于四配位状态时 ,Fe3+的 3d电子处于弱场高自旋状态 ,对磁化率的贡献就较大 ;当Fe3+处于六配位状态时 ,Fe3+的 3d电子处于强场低自旋状态 ,对磁化率的贡献就较小 .(3)磁化率的转折点位于x(Fe2 O3) =6 %附近 .