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题名低压等离子喷涂厚钨涂层的组织与性能
被引量:2
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作者
杨震晓
刘敏
邓春明
陈明娟
邓畅光
车晓舟
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机构
华南理工大学材料科学与工程学院
广州有色金属研究院
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出处
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第2期13-15,19,共4页
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基金
国际热核聚变实验堆(ITER)计划项目(2010GB109002)资助
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文摘
为获得高致密度、高热导率及低氧含量的钨喷涂层,采用低压等离子喷涂(LPPS)技术,以4种不同工艺参数在铬锆铜基体上制备了0.9~1.2 mm钨喷涂层。用扫描电镜、氧氮分析仪及闪光导热仪研究了4种钨喷涂层的显微结构、氧含量及热导率,揭示了优化工艺制备的钨喷涂层的孔径分布,分析了喷涂功率和真空室压力对涂层的影响。结果表明,4种钨喷涂层均呈层状结构,优化工艺制备的钨喷涂层的致密度为98.4%,氧含量为0.2%(质量分数),热导率为110.76 W/(m.K),孔隙的主要孔径分布范围为0.2~4.0μm,以1.0μm左右的孔隙为主。
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关键词
低压等离子喷涂
钨喷涂层
显微结构
孔径分布
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Keywords
low pressure plasma spraying
tungsten coatings
microstructure
pore size distribution
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分类号
TG174.442
[金属学及工艺—金属表面处理]
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