高含量钨对化学光谱法测定痕量金的干扰及消除

高含量的钨干扰化学光谱法测定痕量Ａｕ，它使泡塑的灰份多且散，并伴有黄色的ＷＯ３ 粉末。试验证明，用辛可宁或柠檬酸＋ 酒石酸沉淀法可有效除去ＷＯ３＜ ３０ｍ ｇ 时的干扰。

动态反应池电感耦合等离子体质谱法消除钨的氧化物对汞的质谱干扰

研究了电感耦合等离子体质谱法直接测定土壤或沉积物中汞时钨的氧化物的干扰。在动态反应池中通入氧气将202 WO+氧化成更高的氧化物离子(218 WO2+或234 WO3+),202 Hg+与氧气不反应从而消除钨的氧化物干扰。在副反应抑制参数q为0.75,氧气流量为1.9mL·min-1时,m/z202处背景降低100倍,202 Hg的测定下限(10σ)为0.5ng·g-1。方法用于土壤和沉积物标准物质的分析,结果表明本法可消除钨的氧化物对汞的质谱干扰。

高钨钼回收料中钼含量测定

对高钨钼回收料进行区分采取不同的前处理过程,应用全差示光度法排除钨对检测的干扰,从而准确测定Mo的含量。在稀硫酸介质中Mo+6被硫脲还原成Mo+5,Mo+5与硫氰酸钾溶液发生显色反应,于全差示光度计上进行检测。实验表明,采取不同的预处理方法,样品中的Mo能被很好的浸取,Mo测定范围12%~80%,相对标准偏差(RSD,n=10)小于0.35%,样品的加标回收率在96.7%~102.2%。

差示分光光度法测定高钨钼原料中总钼

在测定钼精矿及钼焙砂中总钼含量时,一直使用中华人民共和国有色金属行业标准[1]《钼精矿化学分析方法钼的测定》,该方法为经典方法,准确度高,但检测周期较长,同时只适用于检测钨含量2％以内的钼原料,目前行业内也没有好的方法替代,同时没有相应的国标或行标作指导.采用差示分光光度计[2]仪器在一定条件下能排除钨的干扰并能准确测定高钨原料中的钼.在酸性溶液中用硫脲将溶液中的Mo6+还原为Mo5+,Mo5+与硫氰酸钾络合生成琥珀色络合物,实验了酸度,硫氰酸钾显色剂用量,反应时间,温度及高钨对钼的测定影响.结果表明:盐酸酸度和显色剂的用量对吸光度影响较大,温度对显色反应影响不大,室温下显色30min即可,且吸光值在120min内基本保持不变;钨对钼的测定不干扰;钼在16～20ug/ml范围内符合比尔定律.方法用于高钨钼原料的测定,相对标准偏差(RSD)不超过0.4％,测定结果与标样认定值测定结果基本一致.

Design principle for parameters and interferences of tungsten carbide insert interface on roller bits

The lifetime of roll-bits with inserted tooth will be obviously decreased while drilling in strata and the tungsten carbide can be integrally separated from the roll-cone,which will need more trip out time to replace the roller bit.This study provides an entire analysis on stress as well as strength for teeth and tooth holes in loaded conditions.Qualities of tooth drop from matrix within roller bit.The optimized interferences of teeth inserted into the bit can be reasonably obtained by the critical interference derived from some relevant influence factors on the tooth-fixing quality of roller bits.