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化学气相沉积法制备钨系列产品特点及工艺分析
被引量:
5
1
作者
陈志刚
颜彬游
冯振雷
《稀有金属与硬质合金》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第6期17-21,共5页
介绍了利用化学气相沉积(CVD)法制备钨系列产品(包括钨管、钨坩埚、钨异型件等纯钨产品和铜基/钨基/钼基/石墨基等涂层产品)的工艺流程及设备体系。CVD法制得的钨系列产品特点有:密度高,其密度值达到理论密度的98.5%以上;纯度高,钨含量...
介绍了利用化学气相沉积(CVD)法制备钨系列产品(包括钨管、钨坩埚、钨异型件等纯钨产品和铜基/钨基/钼基/石墨基等涂层产品)的工艺流程及设备体系。CVD法制得的钨系列产品特点有:密度高,其密度值达到理论密度的98.5%以上;纯度高,钨含量达到99.999 9%;微观组织为柱状晶或多层柱状晶结构;涂层类产品钨与基体结合强度高。
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关键词
钨系列产品
化学气相沉积法
工艺流程
设备体系
材料特性
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职称材料
题名
化学气相沉积法制备钨系列产品特点及工艺分析
被引量:
5
1
作者
陈志刚
颜彬游
冯振雷
机构
厦门钨业股份有限公司
出处
《稀有金属与硬质合金》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第6期17-21,共5页
文摘
介绍了利用化学气相沉积(CVD)法制备钨系列产品(包括钨管、钨坩埚、钨异型件等纯钨产品和铜基/钨基/钼基/石墨基等涂层产品)的工艺流程及设备体系。CVD法制得的钨系列产品特点有:密度高,其密度值达到理论密度的98.5%以上;纯度高,钨含量达到99.999 9%;微观组织为柱状晶或多层柱状晶结构;涂层类产品钨与基体结合强度高。
关键词
钨系列产品
化学气相沉积法
工艺流程
设备体系
材料特性
Keywords
tungsten series product
chemical vapor deposition
process flowsheet
equipment system
material characteristic
分类号
TG174.444 [金属学及工艺—金属表面处理]
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题名
作者
出处
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被引量
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1
化学气相沉积法制备钨系列产品特点及工艺分析
陈志刚
颜彬游
冯振雷
《稀有金属与硬质合金》
CAS
CSCD
北大核心
2013
5
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