期刊文献+
共找到3篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
甲酸还原镀钯及钯层耐腐蚀性能研究
1
作者 王吉成 黄静梦 +6 位作者 郝志峰 徐欣移 胡光辉 罗继业 严楷 陈爱兵 周晓斌 《印制电路资讯》 2023年第6期87-91,共5页
为了解决印制电路板(PCB)化学镀镍浸金(ENIG)表面处理工艺存在的“黑盘”现象,开发新型化学镀镍镀钯浸金(ENEPIG)工艺,在镍层与金层中间沉积钯层作为阻挡层,可有效解决“黑盘”问题。本文采用甲酸还原体系在Ni-P基底上化学镀钯,可获得... 为了解决印制电路板(PCB)化学镀镍浸金(ENIG)表面处理工艺存在的“黑盘”现象,开发新型化学镀镍镀钯浸金(ENEPIG)工艺,在镍层与金层中间沉积钯层作为阻挡层,可有效解决“黑盘”问题。本文采用甲酸还原体系在Ni-P基底上化学镀钯,可获得不同厚度的钯层;XRD分析表明钯层以Pd(111)为主要的晶面取向;SEM表面形貌说明镀层致密性、均匀性良好;EDX测试分析说明钯层为纯钯;采用塔菲尔曲线和交流阻抗图谱研究了不同厚度镀层的耐腐蚀性,表明随着钯层厚度增加,耐腐蚀性能逐渐提高。 展开更多
关键词 钯沉积 化学镀 耐腐蚀性
下载PDF
国外电镀文摘
2
《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 1989年第9期41-45,38,共6页
8909001 铝及铝合金上电镀——Bondal工艺——石崎登,实务表面技术,1988,35(5):219~222(日文) 本文结合近年来的一些进展,介绍了英国1962年开发、于1964年在日本开始实用的Bondal工艺。与通常的浸锌工艺相比,此工艺具有镀层与基体结合... 8909001 铝及铝合金上电镀——Bondal工艺——石崎登,实务表面技术,1988,35(5):219~222(日文) 本文结合近年来的一些进展,介绍了英国1962年开发、于1964年在日本开始实用的Bondal工艺。与通常的浸锌工艺相比,此工艺具有镀层与基体结合良好、对于某些镀层不需先闪镀铜、耐蚀性好等优点。介绍了此种工艺的基本流程和管理方法。8909002 1987年的技术进步:关于无机和“金属”镀层的工艺和设备——Murphy M.Metal Finishing,1988,86(2):15~44(英文) 通过引用973篇参考文献,概述了1987年内在前处理、金属抛光、电镀、阳极氯化、真空镀、热喷涂、 展开更多
关键词 国外 电镀 铬酸盐转化膜 微机控制整流器 沉积 表面钝化 再生 滚桶 碳化钨粉床 电镀 阳极氧化铝着色 贵金属镀液 电解重量分析法 金属着色 脉冲电镀
下载PDF
Mechanism for nucleation and growth of electrochemical deposition of palladium(II) on a platinum electrode in hydrochloric acid solution 被引量:2
3
作者 GU Shuai WANG XinPeng +1 位作者 WEI YueZhou FANG BaiZeng 《Science China Chemistry》 SCIE EI CAS 2014年第5期755-762,共8页
Palladium(II) and chloride ions tend to form complexes in aqueous solution. Both theoretical and experimental (by UV spec- trum) results indicate that there are four complexes formed in aqueous solution containing... Palladium(II) and chloride ions tend to form complexes in aqueous solution. Both theoretical and experimental (by UV spec- trum) results indicate that there are four complexes formed in aqueous solution containing 3 mol/L hydrochloric acid and 20 mmol/L PdC12. This work evaluates the kinetics of electrochemical deposition of palladium on a Platinum electrode. For this purpose, palladium electrodeposition was investigated by means of cyclic voltammetry (CV), potentiostatic current-time tran- sients (CTTs) and Tafel curve. By CTTs curves, the regions corresponding to the charge transfer control, mixed control and diffusion control were identified. In the diffusion control region, palladium electrodeposition mechanism was characterized as progressive nucleation with three-dimensional (3D) growth under diffusion control; as for the mixed control region, an adsorp- tion (1Ads), ion transfer (liT), and nucleation and growth (ING) model were proposed to analyze the current-time transients quan- titatively, which could separate the IAds, lit and IN~ perfectly. 展开更多
关键词 COMPLEXES ELECTRODEPOSITION cyclic voltammetry (CV) KINETICS NUCLEATION
原文传递
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部