脉冲电沉积钨钴合金镀层的织构与硬度

脉冲参数对脉冲电沉积钨钴合金镀层表面组织结构影响很大，从而影响镀层的硬度，目前较少有针对脉冲频率与占空比对钨钴合金镀层微观结构的影响，以及织构与镀层硬度关系方面的报道。利用脉冲电镀电源在CrNiM03VA基材表面沉积钨钴合金镀层，利用扫描电镜（SEM）、x射线衍射仪（XRD）、显微硬度计分析镀层形貌、结构和显微硬度，探究占空比和脉冲频率对镀层织构与硬度的影响。结果表明：随着占空比的增加，镀层织构系数TC（100）由0．398增加到0．845再减小至0．598，镀层硬度由637．8HV2n增至719．2HV，、再减至656．8HV2n；随着脉冲频率的增加，镀层织构系数TC（100）由0．612增加到0．845再减小至0．719，镀层硬度由670．2HV2n增至719．2HV2n再减至703．7HV2n；采用脉冲电沉积方法，可制备出表面分别具有（too）晶面、（101）晶面择优的合金镀层；织构的变化显著影响镀层的硬度，随着织构系数TC（100）的升高，镀层的硬度逐渐增大。