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利用TPD-MS、IR和XPS表征还原态Co-Mo/Al_2O_3 被引量:1
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作者 辛勤 魏昭彬 +1 位作者 张卫民 盛世善 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 1990年第4期418-424,共7页
本文利用NO或/和CO吸附的TPD-MS方法,结合IR和XPS对还原态的Co,Mo,Co-Mo/Al_2O_3催化剂进行了深入考索.结果表明,还原态的Co-Mo/Al_20_3表面上存在着两种吸附NO的Mo中心.弱吸附NO(T_(max)为100℃)可被吸附的CO取代和强吸附NO(T_(max)为... 本文利用NO或/和CO吸附的TPD-MS方法,结合IR和XPS对还原态的Co,Mo,Co-Mo/Al_2O_3催化剂进行了深入考索.结果表明,还原态的Co-Mo/Al_20_3表面上存在着两种吸附NO的Mo中心.弱吸附NO(T_(max)为100℃)可被吸附的CO取代和强吸附NO(T_(max)为300℃)不能被CO取代.同时存在三种吸附NO的CO中心,T_(max)分别为80℃、180℃和330℃.前两者能吸附CO,后者只吸附NO.IR结果对这些不同的Mo中心和Co中心的存在提供了进一步旁证.XPS结果表明提高还原温度,Mo/Al比保持恒定,但Mo^(4+)浓度增加,而Co/Al比却因部分Co进入Al_2O_3体相而降低。 展开更多
关键词 钴-钼/al2o3 还原态 表征
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