电沉积条件对钴-锰合金结构和磁性能的影响

以柠檬酸钠为络合剂、以硼酸为缓冲剂的酸性硫酸盐镀液中电沉积Co-Mn合金,循环伏安曲线表明,Co-Mn的起始共沉积电位约-1.282V(vs.Hg-Hg2SO4,Sat.K2SO4)。采用扫描电子显微镜(SEM)、能谱分析(EDS)、X射线衍射(XRD)和振动样品磁强计(VSM)研究了沉积条件对镀层结构和磁性能的影响。结果表明,Co-Mn镀层的组成受沉积条件影响较大;在镀液pH=4.0时,随着阴极电流密度从10×10-3A/cm2增加至40×10-3A/cm2,镀层中锰摩尔分数从0.3%增大至6.6%;镀层结构由hcp的固溶体转为fcc的固溶体;随着镀层中锰含量增加,膜的饱和磁化强度开始增大,然后降低,最大饱和磁化强度为1926.0kA/m,膜的矫顽力在31.6～33.9kA/m范围。