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等离子喷涂工艺对钽/钨复合涂层组织结构的影响
被引量:
1
1
作者
蒋驰
肖云峰
+1 位作者
税毅
王术刚
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2005年第8期45-48,共4页
采用等离子喷涂方法制备了Ta/W复合涂层,研究了喷涂距离和喷涂功率对Ta/W涂层密度、沉积效率、化学成分和组织结构的影响。结果表明,Ta/W涂层组织致密,钽、钨涂层之间没有明显的界面,涂层密度分别达到14.27g/mm3和16.86g/mm3;喷涂功率...
采用等离子喷涂方法制备了Ta/W复合涂层,研究了喷涂距离和喷涂功率对Ta/W涂层密度、沉积效率、化学成分和组织结构的影响。结果表明,Ta/W涂层组织致密,钽、钨涂层之间没有明显的界面,涂层密度分别达到14.27g/mm3和16.86g/mm3;喷涂功率对钨粉的沉积效率影响较大,喷涂功率低于40kW以下时钨粉的沉积效率极低;涂层中的氧含量较低,氧化主要发生在熔融粒子飞行过程中,采用惰性气体保护可以减少涂层中的氧含量。
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关键词
等离子喷涂
钽/钨复合涂层
组织结构
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职称材料
题名
等离子喷涂工艺对钽/钨复合涂层组织结构的影响
被引量:
1
1
作者
蒋驰
肖云峰
税毅
王术刚
机构
中国工程物理研究院
出处
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2005年第8期45-48,共4页
文摘
采用等离子喷涂方法制备了Ta/W复合涂层,研究了喷涂距离和喷涂功率对Ta/W涂层密度、沉积效率、化学成分和组织结构的影响。结果表明,Ta/W涂层组织致密,钽、钨涂层之间没有明显的界面,涂层密度分别达到14.27g/mm3和16.86g/mm3;喷涂功率对钨粉的沉积效率影响较大,喷涂功率低于40kW以下时钨粉的沉积效率极低;涂层中的氧含量较低,氧化主要发生在熔融粒子飞行过程中,采用惰性气体保护可以减少涂层中的氧含量。
关键词
等离子喷涂
钽/钨复合涂层
组织结构
Keywords
plasma spraying
Ta/W composite coating
structure
分类号
TG174.4 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
等离子喷涂工艺对钽/钨复合涂层组织结构的影响
蒋驰
肖云峰
税毅
王术刚
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2005
1
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