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从钽卤化物前体得到的钽氮化物膜的等离子增强的化学气相沉积方法
1
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
2002年第5期64-64,共1页
关键词
钽
卤化物
前体
钽氮化物膜
等离子增强
化学气相沉积方法
下载PDF
职称材料
题名
从钽卤化物前体得到的钽氮化物膜的等离子增强的化学气相沉积方法
1
出处
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
2002年第5期64-64,共1页
关键词
钽
卤化物
前体
钽氮化物膜
等离子增强
化学气相沉积方法
分类号
TG174.451 [金属学及工艺—金属表面处理]
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作者
出处
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1
从钽卤化物前体得到的钽氮化物膜的等离子增强的化学气相沉积方法
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
2002
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