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铁氰化镍化学修饰电极对亚硫酸根离子的电催化氧化及其应用 被引量:5
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作者 王政萍 王升富 +1 位作者 蒋勉 周性尧 《分析试验室》 CAS CSCD 北大核心 1993年第1期91-93,共3页
本文采用电化学方法在玻碳(GC)基体上制备出性能稳定的铁氰化镍(NiHCF)修饰膜电极,表征了NiHCF膜的电化学行为,研究了其对SO_3^(2-)离子的电催化氧化作用。结果表明,SO_3^(2-)离子在NiHCF/GC上氧化是受NiHCF媒介作用的,属EC平行催化反... 本文采用电化学方法在玻碳(GC)基体上制备出性能稳定的铁氰化镍(NiHCF)修饰膜电极,表征了NiHCF膜的电化学行为,研究了其对SO_3^(2-)离子的电催化氧化作用。结果表明,SO_3^(2-)离子在NiHCF/GC上氧化是受NiHCF媒介作用的,属EC平行催化反应。催化峰电流与SO_3^(2-)离子浓度在1.0×10^(-6)~2.0×10^(-2)mol/L范围内呈线性关系,检测限可达5.0×10^(-7)mol/L。用于测定空气中SO_2含量,结果良好。 展开更多
关键词 氰化化学修饰电极 电催化氧化 亚硫酸根测定
全文增补中
流动体系石墨基体NiHCF膜电极电控铯离子分离 被引量:1
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作者 毛祖秋 郝晓刚 +3 位作者 李一兵 张忠林 刘世斌 温亚龙 《高校化学工程学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期764-769,共6页
采用石墨基体NiHCF膜电极组装填充床电化学反应器,考察二电极流动体系下溶液中Cs离子的电化学控制分离性能。在膜电极上施加阴极电压使Cs+置入膜内,分别考察操作电压、进料浓度和流量等参数对反应器出水Cs+浓度的影响,并用Thomas模型描... 采用石墨基体NiHCF膜电极组装填充床电化学反应器,考察二电极流动体系下溶液中Cs离子的电化学控制分离性能。在膜电极上施加阴极电压使Cs+置入膜内,分别考察操作电压、进料浓度和流量等参数对反应器出水Cs+浓度的影响,并用Thomas模型描述该过程的穿透曲线;将置入Cs+的膜电极外加阳极电压释放Cs+使膜电极再生,并通过连续多批次运行测试膜电极的稳定性。研究结果表明:石墨基体NiHCF膜在二电极体系下具有良好的电控吸附性能和再生能力,槽电压10V、流速80BV·h-1、进料浓度7mg·L-1、穿透率为50%时可处理225BV的模拟废液,单次运行Cs离子平均去除率可达56%,电控吸附过程符合Thomas吸附动力学模型。膜电极氧化再生快捷方便,多批次运行性能稳定,水溶液中Cs+可得到有效分离。 展开更多
关键词 铯离子分离 铁氰化镍膜电极 电极体系 穿透曲线
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