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铁氰化镍化学修饰电极对亚硫酸根离子的电催化氧化及其应用
被引量:
5
1
作者
王政萍
王升富
+1 位作者
蒋勉
周性尧
《分析试验室》
CAS
CSCD
北大核心
1993年第1期91-93,共3页
本文采用电化学方法在玻碳(GC)基体上制备出性能稳定的铁氰化镍(NiHCF)修饰膜电极,表征了NiHCF膜的电化学行为,研究了其对SO_3^(2-)离子的电催化氧化作用。结果表明,SO_3^(2-)离子在NiHCF/GC上氧化是受NiHCF媒介作用的,属EC平行催化反...
本文采用电化学方法在玻碳(GC)基体上制备出性能稳定的铁氰化镍(NiHCF)修饰膜电极,表征了NiHCF膜的电化学行为,研究了其对SO_3^(2-)离子的电催化氧化作用。结果表明,SO_3^(2-)离子在NiHCF/GC上氧化是受NiHCF媒介作用的,属EC平行催化反应。催化峰电流与SO_3^(2-)离子浓度在1.0×10^(-6)~2.0×10^(-2)mol/L范围内呈线性关系,检测限可达5.0×10^(-7)mol/L。用于测定空气中SO_2含量,结果良好。
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关键词
铁
氰化
镍
膜
化学修饰
电极
电催化氧化
亚硫酸根测定
全文增补中
流动体系石墨基体NiHCF膜电极电控铯离子分离
被引量:
1
2
作者
毛祖秋
郝晓刚
+3 位作者
李一兵
张忠林
刘世斌
温亚龙
《高校化学工程学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第5期764-769,共6页
采用石墨基体NiHCF膜电极组装填充床电化学反应器,考察二电极流动体系下溶液中Cs离子的电化学控制分离性能。在膜电极上施加阴极电压使Cs+置入膜内,分别考察操作电压、进料浓度和流量等参数对反应器出水Cs+浓度的影响,并用Thomas模型描...
采用石墨基体NiHCF膜电极组装填充床电化学反应器,考察二电极流动体系下溶液中Cs离子的电化学控制分离性能。在膜电极上施加阴极电压使Cs+置入膜内,分别考察操作电压、进料浓度和流量等参数对反应器出水Cs+浓度的影响,并用Thomas模型描述该过程的穿透曲线;将置入Cs+的膜电极外加阳极电压释放Cs+使膜电极再生,并通过连续多批次运行测试膜电极的稳定性。研究结果表明:石墨基体NiHCF膜在二电极体系下具有良好的电控吸附性能和再生能力,槽电压10V、流速80BV·h-1、进料浓度7mg·L-1、穿透率为50%时可处理225BV的模拟废液,单次运行Cs离子平均去除率可达56%,电控吸附过程符合Thomas吸附动力学模型。膜电极氧化再生快捷方便,多批次运行性能稳定,水溶液中Cs+可得到有效分离。
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关键词
铯离子分离
铁氰化镍膜电极
二
电极
体系
穿透曲线
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职称材料
题名
铁氰化镍化学修饰电极对亚硫酸根离子的电催化氧化及其应用
被引量:
5
1
作者
王政萍
王升富
蒋勉
周性尧
机构
武汉大学化学系
出处
《分析试验室》
CAS
CSCD
北大核心
1993年第1期91-93,共3页
基金
国家自然科学基金
高等学校博士学科点专项科研基金
文摘
本文采用电化学方法在玻碳(GC)基体上制备出性能稳定的铁氰化镍(NiHCF)修饰膜电极,表征了NiHCF膜的电化学行为,研究了其对SO_3^(2-)离子的电催化氧化作用。结果表明,SO_3^(2-)离子在NiHCF/GC上氧化是受NiHCF媒介作用的,属EC平行催化反应。催化峰电流与SO_3^(2-)离子浓度在1.0×10^(-6)~2.0×10^(-2)mol/L范围内呈线性关系,检测限可达5.0×10^(-7)mol/L。用于测定空气中SO_2含量,结果良好。
关键词
铁
氰化
镍
膜
化学修饰
电极
电催化氧化
亚硫酸根测定
Keywords
Nickel hexacyanoferrate
chemically modified electrode
electrocatalytic oxidation
sulfite determination
分类号
O65 [理学—分析化学]
全文增补中
题名
流动体系石墨基体NiHCF膜电极电控铯离子分离
被引量:
1
2
作者
毛祖秋
郝晓刚
李一兵
张忠林
刘世斌
温亚龙
机构
太原理工大学洁净化工研究所
出处
《高校化学工程学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第5期764-769,共6页
基金
国家自然科学基金(20676089)
山西省自然科学基金(2007011029)
+1 种基金
山西省回国留学人员基金(2008-32)
太原科技明星专项(2010)
文摘
采用石墨基体NiHCF膜电极组装填充床电化学反应器,考察二电极流动体系下溶液中Cs离子的电化学控制分离性能。在膜电极上施加阴极电压使Cs+置入膜内,分别考察操作电压、进料浓度和流量等参数对反应器出水Cs+浓度的影响,并用Thomas模型描述该过程的穿透曲线;将置入Cs+的膜电极外加阳极电压释放Cs+使膜电极再生,并通过连续多批次运行测试膜电极的稳定性。研究结果表明:石墨基体NiHCF膜在二电极体系下具有良好的电控吸附性能和再生能力,槽电压10V、流速80BV·h-1、进料浓度7mg·L-1、穿透率为50%时可处理225BV的模拟废液,单次运行Cs离子平均去除率可达56%,电控吸附过程符合Thomas吸附动力学模型。膜电极氧化再生快捷方便,多批次运行性能稳定,水溶液中Cs+可得到有效分离。
关键词
铯离子分离
铁氰化镍膜电极
二
电极
体系
穿透曲线
Keywords
cesium ion separation
NiHCF film electrode
two electrodes system
breakthrough curves
分类号
X703.1 [环境科学与工程—环境工程]
TQ028.15 [化学工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
铁氰化镍化学修饰电极对亚硫酸根离子的电催化氧化及其应用
王政萍
王升富
蒋勉
周性尧
《分析试验室》
CAS
CSCD
北大核心
1993
5
全文增补中
2
流动体系石墨基体NiHCF膜电极电控铯离子分离
毛祖秋
郝晓刚
李一兵
张忠林
刘世斌
温亚龙
《高校化学工程学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
1
下载PDF
职称材料
已选择
0
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参考文献
引证文献
统计分析
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