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铁氰酸镍修饰的过氧化氢电化学传感器的研究 被引量:1
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作者 李春香 阳明辉 +1 位作者 沈国励 俞汝勤 《化学传感器》 CAS 2003年第2期9-17,共9页
该文提出了一种新的过氧化氢电化学传感器的制备方法。利用循环伏安法,在金电极表面电化学沉积一层铁氰酸镍膜(NiHCF),在一定电位条件下,它能催化还原过氧化氢,其响应电流与过氧化氢的浓度呈线性关系。经Nafion修饰后的铁氰酸镍膜性能稳... 该文提出了一种新的过氧化氢电化学传感器的制备方法。利用循环伏安法,在金电极表面电化学沉积一层铁氰酸镍膜(NiHCF),在一定电位条件下,它能催化还原过氧化氢,其响应电流与过氧化氢的浓度呈线性关系。经Nafion修饰后的铁氰酸镍膜性能稳定,能排除多种物质对过氧化氢的干扰。用循环伏安法探讨了Ni、Co和Cu的三种铁氰酸盐修饰电极的性能及电化学特性,并研究了各种实验条件对过氧化氢传感器性能的影响。该传感器制作简单,使用寿命长,在实际试样的回收率测定中,结果满意。 展开更多
关键词 铁氰酸镍膜 修饰 过氧化氢 电化学传感器 循环伏安法 电化学沉积
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