铜/钴纳米多层膜的电化学制备及表征

纳米金属多层膜由于其巨磁电阻性能而受到人们的重视。采用双脉冲控电位技术在单晶硅上沉积铜 /钴纳米多层膜。测量了电沉积过程中的阴极极化曲线及电流 -时间曲线 ,确定了沉积电位 ;利用扫描电子显微技术及X射线衍射技术观察了沉积层的断面形貌及晶体结构。结果表明 ,沉积层结构清晰、连续 ,各子层厚度均匀。