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氧化气氛下铜红花釉的研制
被引量:
3
1
作者
林营
杨海波
王芬
《佛山陶瓷》
2002年第12期8-10,共3页
通过在基础釉中引入SiC及复合还原剂,成功地试制出氧化气氛下1130~1160℃烧成,适合各类艺术瓷装饰的低温慢烧铜红花釉配方;实验研究了复合还原剂影响结果,并且讨论分析了PbO、B2O3等添加剂的作用机理,确定了它们的最佳加入量。
关键词
氧化气氛
铜红花釉
研制
复合还原剂
陶瓷
釉
下载PDF
职称材料
题名
氧化气氛下铜红花釉的研制
被引量:
3
1
作者
林营
杨海波
王芬
机构
陕西科技大学
出处
《佛山陶瓷》
2002年第12期8-10,共3页
文摘
通过在基础釉中引入SiC及复合还原剂,成功地试制出氧化气氛下1130~1160℃烧成,适合各类艺术瓷装饰的低温慢烧铜红花釉配方;实验研究了复合还原剂影响结果,并且讨论分析了PbO、B2O3等添加剂的作用机理,确定了它们的最佳加入量。
关键词
氧化气氛
铜红花釉
研制
复合还原剂
陶瓷
釉
Keywords
Oxidizing,Atmosphere,Complexreducing ag ent,Bloomcopper-redglaze
分类号
TQ174.7 [化学工程—陶瓷工业]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
氧化气氛下铜红花釉的研制
林营
杨海波
王芬
《佛山陶瓷》
2002
3
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