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氧化气氛下铜红花釉的研制 被引量:3
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作者 林营 杨海波 王芬 《佛山陶瓷》 2002年第12期8-10,共3页
通过在基础釉中引入SiC及复合还原剂,成功地试制出氧化气氛下1130~1160℃烧成,适合各类艺术瓷装饰的低温慢烧铜红花釉配方;实验研究了复合还原剂影响结果,并且讨论分析了PbO、B2O3等添加剂的作用机理,确定了它们的最佳加入量。
关键词 氧化气氛 铜红花釉 研制 复合还原剂 陶瓷
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