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新型水封式铜线退火炉 被引量:1
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作者 姜喜成 《电线电缆》 1995年第5期31-34,共4页
针对现有退火工艺设备能耗大、近火裸线质量不稳定等缺陷,研制开发了新型水封式退火炉。新型退火炉的外型结构类似于漆包机的退火炉,特点是:用走线管作为加热元件,传热环节少,电热转换效率比井式退火炉高10倍以上;升温30mi... 针对现有退火工艺设备能耗大、近火裸线质量不稳定等缺陷,研制开发了新型水封式退火炉。新型退火炉的外型结构类似于漆包机的退火炉,特点是:用走线管作为加热元件,传热环节少,电热转换效率比井式退火炉高10倍以上;升温30min就可达550℃;有12根走线管的新型退火炉的生产率约为800kg容量井式退火炉的5倍;可用于直径为0.3~3.0mm圆单线及截面为0.12 ̄10mm2束绞线退火,退火产品光亮,无粘连、压线、物理机械性能不均的问题。用它取代井式退火炉和漆包机的退火炉,有良好的技术经济效益。 展开更多
关键词 退火炉 技术特性 铜线退火炉
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通用工艺与设备
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《电子科技文摘》 2001年第1期32-33,共2页
Y2000-62185-9 0100370EKC265 处理寿命及衬垫上氟与碳的玷污=A study onEKC265 bath life and Fluorine & carbon contaminationon bond pads[会,英]/An.L.H.& Lai.K.K.//1998IEEE International Conference on Semiconductor ... Y2000-62185-9 0100370EKC265 处理寿命及衬垫上氟与碳的玷污=A study onEKC265 bath life and Fluorine & carbon contaminationon bond pads[会,英]/An.L.H.& Lai.K.K.//1998IEEE International Conference on Semiconductor Elec-tronics.—9~12(EC)Y2000-62185-80 0100371硅片背面薄膜对快速热氧化(RTO)生长的影响=Theeffect of backside films on rapid thermal oxidation(RTO)growth on silicon wafers[会,英]/Omar,A.B. 展开更多
关键词 工艺与设备 快速热氧化 铜线退火炉 薄膜 通用 寿命 机械工程 硅片 衬垫 大学自然科学学报
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