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铜连接线工艺前景广阔
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作者 砥中 《电子产品世界》 1998年第9期49-49,共1页
多年来,科学家们一直为突破IC内部铝连接线的性能局限而奋斗。这些局限包括:相当高的电阻、对电迁移的脆弱性以及应力在合金内引起的孔隙。IC线宽的持续缩小使这些局限更加难以突破。研究人员早已知道铜连接线可以降低电阻,但制... 多年来,科学家们一直为突破IC内部铝连接线的性能局限而奋斗。这些局限包括:相当高的电阻、对电迁移的脆弱性以及应力在合金内引起的孔隙。IC线宽的持续缩小使这些局限更加难以突破。研究人员早已知道铜连接线可以降低电阻,但制造铜连接线的困难和害怕损坏生产晶体... 展开更多
关键词 铜连接线工艺 IC 制造工艺
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更多IC制造商紧跟IBM掌握铜连接线技术
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作者 Rodney Myrvaagnes 王正华 《今日电子》 1999年第7期11-12,共2页
以铜取代常用的铝做连接线已不再是唯一由IBM所独占的IC制造技术了。去年(1998年)夏季IBM公司宣布它的采用铜连接线技术的PowerPC投入生产,并一直保持住这项领先地位到现在。然而,根据最近摩托罗拉、朗讯。
关键词 IC 制造商 铜连接线技术 制造工艺
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几种与材料有关的半导体新技术
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作者 砥中 《今日电子》 1999年第10期14-15,共2页
在先进的加工技术使IC不断精细化的同时,科学家和工程师们通过改变材料和相应的新技术把IC性能推上新的高度。它们是: ·硅锗器件 ·硅绝缘技术大圆片 ·铜连接线 ·低介质常数绝缘体 ·锶钛氧化物新技术 其中有的... 在先进的加工技术使IC不断精细化的同时,科学家和工程师们通过改变材料和相应的新技术把IC性能推上新的高度。它们是: ·硅锗器件 ·硅绝缘技术大圆片 ·铜连接线 ·低介质常数绝缘体 ·锶钛氧化物新技术 其中有的已经走出实验室和边缘市场成为主流,有的则是刚刚在实验室取得的新成果。 展开更多
关键词 半导体技术 材料 硅锗器件 硅绝缘 铜连接线
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