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硅基聚合物AWG波分复用器研究
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作者 张大明 赵禹 +4 位作者 王菲 陈开鑫 崔占臣 马春生 许武 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第0Z2期340-344,共5页
报道利用甲基丙稀酸甲酯-甲基丙稀酸缩水甘油酯共聚物研制AWG波分复用器,对其原理、设计及制作工艺进行了研究。设计出AWG版图,利用铝掩模技术及反应离子刻蚀工艺完成了聚合物AWG制作。实验结果证明,制备的波导实现了单模传输。
关键词 硅基聚合物 波分复用器 AWG 阵列波导光栅 铝掩模 反应离子刻蚀 制作工艺 光纤通信 甲基丙稀酸甲酯-甲基丙稀酸缩水甘油酯共聚物
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脊形聚合物光波导制备及理论分析 被引量:4
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作者 邢汝冰 张学亮 +1 位作者 张平 高福斌 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期80-84,共5页
报道了利用铝膜作掩模 ,通过紫外光照射制备键合型聚合物DANS PMMA脊形光波导的新方法。所制备的聚合物脊形光波导 ,其形状与通常的脊形波导相同 ,但内部折射率又与矩形波导类似。从理论上推导出该脊形波导的模式本征值方程 ,并给出相... 报道了利用铝膜作掩模 ,通过紫外光照射制备键合型聚合物DANS PMMA脊形光波导的新方法。所制备的聚合物脊形光波导 ,其形状与通常的脊形波导相同 ,但内部折射率又与矩形波导类似。从理论上推导出该脊形波导的模式本征值方程 ,并给出相应的归一化通用曲线 ,可以供相应波导设计和制备作为参考。 展开更多
关键词 脊形聚合物光波导 本征值方程 聚合物薄膜 掩模 紫外光照射 归一化通用曲线
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集成光学 光波导材料与制备
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《中国光学》 CAS 2005年第5期55-55,共1页
TN252 2005053604 制作聚台物光波导的铝掩模工艺=Aluminum mask for tabrication of polymeric optical waveguide[刊,中]/赵禹 (中兴通讯股份有限公司.广东,深圳(518057)),张大明… ∥半导体光电.-2005,26(3).-208-211 针对聚合... TN252 2005053604 制作聚台物光波导的铝掩模工艺=Aluminum mask for tabrication of polymeric optical waveguide[刊,中]/赵禹 (中兴通讯股份有限公司.广东,深圳(518057)),张大明… ∥半导体光电.-2005,26(3).-208-211 针对聚合物波导制备中的关键技术-刻蚀掩模,进行 了系统的研究。以铝为例,利用原子力显微镜和光电子能 谱,详细地分析并讨论了在聚合物表面溅射镀铝对芯层波 导的影响。明确指出,溅射会在聚合物表面形成一层金属 包层,从而在器件中引入额外的吸收损耗并对此进行了计 算,同时给出解决的办法。最后,总结出最佳的工艺流程。 图5参21(于晓光) 展开更多
关键词 集成光学 光波导材料 聚合物光波导 原子力显微镜 溅射 铝掩模 关键技术 聚合物表面 波导制备 半导体
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聚合物阵列波导光栅复用器的研究
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作者 赵禹 马春生 +4 位作者 张大明 王菲 崔占臣 刘式墉 衣茂斌 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第11期1097-1100,共4页
介绍了聚合物阵列波导光栅(AWG)复用器的基本原理,进而用Al掩模制做聚合物AWG光波导。结果表明:AWG器件的制做工艺,Al掩模技术明显优于厚胶掩模技术。用这种技术制备的器件,其结构指标与理论设计相符合而且波导在1.55μm处实现了单模传输。
关键词 阵列波导光栅 AWG 复用器 光波导 Al掩模 单模 铝掩模 聚合物 光学器件
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