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题名硫化法在金属箔片衬底上制备ZnS薄膜研究
被引量:3
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作者
许佳雄
罗少魁
辛辅炼
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机构
广东工业大学材料与能源学院
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出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015年第23期23144-23147,23152,共5页
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基金
国家自然科学基金资助项目(61504029)
中国博士后科学基金面上资助项目(2012M521575)
广东工业大学大学生创新创业训练计划资助项目(xj201311845089)
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文摘
采用铝箔作为衬底材料,用溅射Zn薄膜再硫化的两步法制备ZnS薄膜,对薄膜进行XRD、EDS和SEM测试,分析硫化温度对薄膜特性的影响。实验结果表明,硫化温度400℃可确保Zn与S反应生成ZnS,薄膜择优取向为(111)晶面。提高硫化温度可增大(111)衍射峰的强度和晶粒尺寸,即提高ZnS薄膜的结晶度。所制备薄膜的组分接近ZnS化学计量比,且表现出贫Zn和富S特性,说明已发生充分的硫化反应。薄膜表面平滑且无裂纹,由致密排列的晶粒组成。实验结果说明采用硫化法在铝箔衬底上制备ZnS薄膜的可行性。
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关键词
硫化法
ZNS
铝箔衬底
薄膜
XRD
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Keywords
sulfurization method
ZnS
aluminum foil substrate
thin film
XRD
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分类号
TN304.2
[电子电信—物理电子学]
O484.1
[理学—固体物理]
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