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题名直流磁控溅射铝纳米颗粒膜的微结构及电学特性
被引量:4
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作者
花银群
朱爱春
陈瑞芳
郭立强
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机构
江苏大学机械工程学院
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出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015年第4期4071-4075,共5页
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基金
国家自然科学基金资助项目(51175234)
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文摘
采用直流磁控溅射法,以高纯铝(99.99%)为靶材,高纯氩气(99.999%)为起辉气体,在经机械抛光的单晶Si衬底上制备铝纳米颗粒薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、光学薄膜测厚仪、扫描电子显微镜(SEM)和四探针测试仪分别测试了铝纳米颗粒薄膜的晶相结构、薄膜厚度、表面形貌及电阻率。XRD衍射图谱表明此薄膜为面心立方的多晶结构,择优取向为Al(111)晶面。随溅射功率由30 W增至300 W,铝纳米颗粒薄膜的沉积速率由3.03 nm/min增加至20.03 nm/min;而随溅射压强由1 Pa增加至3 Pa,沉积速率由2.95 nm/min降低到1.66 nm/min。在溅射功率为150 W,溅射压强为1.0 Pa条件下制备的样品具有良好的晶粒分布。随溅射功率从80 W增大到160 W,样品电阻率由4.0×10-7Ω·m逐渐减小到1.9×10-7Ω·m;而随溅射压强从1 Pa增至3 Pa,样品电阻率由1.9×10-7Ω·m增加到7.1×10-7Ω·m。
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关键词
直流磁控溅射
铝纳米颗粒薄膜
沉积速率
微结构
电阻率
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Keywords
DC magnetron sputtering
Al nano-particle films
sputtering rate
microstructure
electrical resistivity
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分类号
TG113
[金属学及工艺—物理冶金]
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