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铟吸附氢钝化Si(100)表面的结构和稳定性研究 被引量:1
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作者 李玉山 《江西师范大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2010年第6期609-611,共3页
采用第一性原理理论研究了In吸附氢钝化的Si(100)面的结构和稳定性.对In原子吸附结构的计算表明不同的重构表面其吸附结构也是不同的:In在H/Si(100)-(2×1)面的吸附能高于In在H/Si(100)-(1×1)面的吸附能;由于氢原子对硅表面的... 采用第一性原理理论研究了In吸附氢钝化的Si(100)面的结构和稳定性.对In原子吸附结构的计算表明不同的重构表面其吸附结构也是不同的:In在H/Si(100)-(2×1)面的吸附能高于In在H/Si(100)-(1×1)面的吸附能;由于氢原子对硅表面的钝化作用,使得In在Si衬底的外延生长被破坏,In原子易在衬底表面形成团簇.对In原子是否会向衬底扩散并与H原子发生交换的研究结果表明:In原子吸附于H/Si(100)表面比与H原子发生交换具有更稳定的能量.因此,在平衡条件下,In原子不会与H原子发生交换. 展开更多
关键词 重构 氢钝化 铟吸附 吸附
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ADSORPTION OF MACROPOROUS PHOSPHONIC ACID RESIN FOR INDIUM 被引量:4
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作者 WANGHuijun XIONGChunhua YAOCaiping 《Chinese Journal of Reactive Polymers》 2004年第1期57-64,共8页
The adsorption kinetics and mechanism of a novel chelate resin, macroporous phosphonic acid resin (PAR) for In(III) were investigated. The statically saturated adsorption capacity is 216mg穏-1resin at 298K in HAc-NaAc... The adsorption kinetics and mechanism of a novel chelate resin, macroporous phosphonic acid resin (PAR) for In(III) were investigated. The statically saturated adsorption capacity is 216mg穏-1resin at 298K in HAc-NaAc medium. The apparent adsorption rate constant is k298=4.84?0-5 s-1. The adsorption behavior of PAR for In(III) obeys the Freundlich isotherm. The thermodynamic adsorption parameters, enthalpy change △H, free energy change △G and entropy change △S of PAR for In(III) are 11.5kJ/mol, -12.6kJ/mol and 80.8J/mol稫, respectively. The apparent activation energy is Ea=3.5kJ/mol. The molar coordination ratio of the functional group of PAR to In(III) is about 3∶1. 展开更多
关键词 Macroporous phosphonic acid resin INDIUM ADSORPTION Kinetics.
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