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微光器件铟封漏气因素分析
被引量:
1
1
作者
徐江涛
程耀进
师宏立
《真空电子技术》
2008年第5期47-49,共3页
为解决微光管光电阴极与管体铟封漏气问题,采用扫描电镜和X射线能谱仪对铟材和封接过程工艺质量进行全面分析,结果表明造成铟封漏气的根本原因是铟量小,铟表面氧化和吸附的杂质污染造成的,与铟纯度无关。采取提高真空度,改进化铟工艺,...
为解决微光管光电阴极与管体铟封漏气问题,采用扫描电镜和X射线能谱仪对铟材和封接过程工艺质量进行全面分析,结果表明造成铟封漏气的根本原因是铟量小,铟表面氧化和吸附的杂质污染造成的,与铟纯度无关。采取提高真空度,改进化铟工艺,控制铟高温外流等措施解决了阴极与管体铟封漏气问题,使气密性成品率大于90%。
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关键词
微光器件
铟封漏气
气密性
杂质污染
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职称材料
题名
微光器件铟封漏气因素分析
被引量:
1
1
作者
徐江涛
程耀进
师宏立
机构
西安应用光学研究所微光夜视技术国防科技重点实验室
出处
《真空电子技术》
2008年第5期47-49,共3页
文摘
为解决微光管光电阴极与管体铟封漏气问题,采用扫描电镜和X射线能谱仪对铟材和封接过程工艺质量进行全面分析,结果表明造成铟封漏气的根本原因是铟量小,铟表面氧化和吸附的杂质污染造成的,与铟纯度无关。采取提高真空度,改进化铟工艺,控制铟高温外流等措施解决了阴极与管体铟封漏气问题,使气密性成品率大于90%。
关键词
微光器件
铟封漏气
气密性
杂质污染
Keywords
Low-light-device
Indium leaks
Gas tightness
Miscellaneous quality pollution
分类号
TN105 [电子电信—物理电子学]
TN385 [电子电信—物理电子学]
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作者
出处
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1
微光器件铟封漏气因素分析
徐江涛
程耀进
师宏立
《真空电子技术》
2008
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