铟锡复合氧化物(ITO,Indium and Tin Oxide)膜是铟的主要应用领域。在其制备工艺中,产出大量的ITO废靶需回收处理。研究了硫化沉淀法分离ITO废靶硫酸浸出液中铟、锡的工艺。平衡计算证明了硫化沉淀分离铟、锡的可行性。试验研究了温度...铟锡复合氧化物(ITO,Indium and Tin Oxide)膜是铟的主要应用领域。在其制备工艺中,产出大量的ITO废靶需回收处理。研究了硫化沉淀法分离ITO废靶硫酸浸出液中铟、锡的工艺。平衡计算证明了硫化沉淀分离铟、锡的可行性。试验研究了温度、酸度及反应时间对分离过程的影响,正交试验得出最佳工艺条件:温度323 K,反应时间20 min,溶液起始酸度100 g H2SO4/L。在此条件下,除锡率可达100%,铟在渣中的损失率仅为0.47%。展开更多
文摘铟锡复合氧化物(ITO,Indium and Tin Oxide)膜是铟的主要应用领域。在其制备工艺中,产出大量的ITO废靶需回收处理。研究了硫化沉淀法分离ITO废靶硫酸浸出液中铟、锡的工艺。平衡计算证明了硫化沉淀分离铟、锡的可行性。试验研究了温度、酸度及反应时间对分离过程的影响,正交试验得出最佳工艺条件:温度323 K,反应时间20 min,溶液起始酸度100 g H2SO4/L。在此条件下,除锡率可达100%,铟在渣中的损失率仅为0.47%。