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1.3微米铟镓砷磷大光腔半导体激光器
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作者 朱宝仁 黎荣晖 钟景昌 《长春光学精密机械学院学报》 1989年第4期39-44,共6页
本文介绍了我们研制的1.3微米波长铟镓砷磷大光腔结构半导体激光器的制作及其部分主要光电特性。该器件由于采用大光腔结构,脉冲输出峰值功率大于5瓦,阈值电流密度低于2700A/cm^2工作寿命大于1000小时。
关键词 激光器 半导体 铟镓砷磷 光腔
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InGaAsP多量子阱微盘激光器 被引量:2
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作者 宁永强 武胜利 +5 位作者 王立军 林久龄 刘云 傅德惠 刘育梅 金亿鑫 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1998年第5期345-348,共4页
采用湿法化学腐蚀在气源MBEInGaAsP多量子阱材料上制作了微盘型激光器,直径8μm的微盘激光器表现出很好的单模激射特性,阈值泵浦功率为170μW,激射线宽为1.5nm.
关键词 微盘激光器 多量子阱 铟镓砷磷 单模激射特性
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10×10InGaAsP/InP阵列波导光栅器件的研制
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作者 雷红兵 于丽娟 +3 位作者 陆巧银 国伟华 韩春林 黄永箴 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 2003年第6期49-50,共2页
研制了脊形波导结构的10×10InGaAsP/InP阵列波导光栅器件(AWG),并采用掺铒光纤放大器(EDFA)作宽带光源测量了AWG的近场图以及分光特性。
关键词 波导光栅器件 铟镓砷磷/铟阵列 波分复用技术 掺铒光纤放大器 宽带光源 近场图 分光特性 光纤网络通信
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运用Nd:YAG激光器的InGaAsP超晶格激光诱导无序
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作者 黄晓东 何健 +1 位作者 刘雪峰 黄德修 《武汉大学学报(自然科学版)》 CSCD 1999年第5期613-616,共4页
对与InP晶格匹配的InGaAsP四元系量子阱材料进行了热稳定性能的研究,通过光荧光谱(PL)的测量发现:量子阱材料在650 ℃以上的常规退火条件下,有最大可达155 m eV 的PL峰值蓝移,表明禁带宽度有明显增大.运... 对与InP晶格匹配的InGaAsP四元系量子阱材料进行了热稳定性能的研究,通过光荧光谱(PL)的测量发现:量子阱材料在650 ℃以上的常规退火条件下,有最大可达155 m eV 的PL峰值蓝移,表明禁带宽度有明显增大.运用1.064 μm 连续输出的Nd:YAG激光器进行光子吸收诱导无序(PAID)技术的研究,比较量子阱材料被辐照前后荧光谱的峰值位置和谱宽,发现量子阱结构的禁带宽度在激光辐照后有明显增大,证明有量子阱混合现象产生.衬底预加热结果表明,提高衬底温度可减少PAID中的激光辐照时间和平均功率密度. 展开更多
关键词 量子阱混合 光子吸收 诱导无序 铟镓砷磷
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(111)AInP衬底上MOCVD外延InGaAsP的表面形貌和光学特性
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作者 刘瑞东 于丽娟 +2 位作者 芦秀玲 黄永箴 张福甲 《液晶与显示》 CAS CSCD 2004年第2期87-91,共5页
为了研究 (111)衬底的特性以及实现等边三角形微腔激光器 ,利用金属有机化学气相淀积 (MOCVD)研究了 (111)AInP衬底上InGaAsP外延层的表面形貌和光学特性。考虑到(111)AInP衬底的悬挂键密度比较低 ,在生长过程中有意提高了V/Ш比。通过... 为了研究 (111)衬底的特性以及实现等边三角形微腔激光器 ,利用金属有机化学气相淀积 (MOCVD)研究了 (111)AInP衬底上InGaAsP外延层的表面形貌和光学特性。考虑到(111)AInP衬底的悬挂键密度比较低 ,在生长过程中有意提高了V/Ш比。通过扫描电子显微镜 (SEM )和光荧光 (PL)谱分别研究了外延层的表面形貌和光学特性。实验发现 ,表面形貌和光学特性随V/Ш比和温度的变化非常大。最佳V/Ш比和温度分别为 4 0 0和 6 2 5℃。 展开更多
关键词 金属有机化学气相淀积 化铟衬底 表面形貌 铟镓砷磷 扫描电子显微镜分析 半导体材料
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MOCVD生长InP/GaInAsP DBR结构及相关材料特性 被引量:2
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作者 蒋红 金亿鑫 +2 位作者 缪国庆 宋航 元光 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期632-636,共5页
采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法InP衬底上成功地制备了GaxIn1-xAsyP1-y/InP交替生长的分布布喇格反射镜(DBR)结构以及与之相关的四元合金GaxIn1-xAsyP1-y和InP外延层。利用X射线衍射、扫描电子显微镜(SEM)、低温光致发光(PL)光谱等... 采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法InP衬底上成功地制备了GaxIn1-xAsyP1-y/InP交替生长的分布布喇格反射镜(DBR)结构以及与之相关的四元合金GaxIn1-xAsyP1-y和InP外延层。利用X射线衍射、扫描电子显微镜(SEM)、低温光致发光(PL)光谱等测量手段对材料的物理特性进行了表征。结果表明,在InP衬底上生长的InP外延层和四元合金GaxIn1-xAsyP1-y外延层77K光致发光(PL)谱线半峰全宽(FWHM)分别为9.3meV和32meV,说明形成DBRs结构的交替层均具有良好的光学质量。X射线衍射测量结果表明,四元合金GaxIn1-xAsyP1-y外延层与InP衬底之间的相对晶格失配仅为1×10-3。GaxIn1-xAsyP1-y/InP交替生长的DBR结构每层膜的光学厚度约为λ/4n(λ=1.55/μm)。根据多层膜增反原理计算得出当膜的周期数为23时,反射率可达90%。 展开更多
关键词 金属有机化学气相沉积 MOCVD 半导体材料 化铟 铟镓 布喇格反射镜 X射线衍射 扫描电子显微镜 低温光致发光光谱 反射率 周期数
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具有AlGaAs缓变结构的InGaP/GaAs HBT性能改进分析 被引量:1
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作者 周守利 熊德平 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2008年第3期388-391,共4页
对改进型结构具有零导带势垒尖峰的缓变InGaP/AlGaAs/GaAs HBT器件的直流和高频特性进行了理论探讨,并同传统突变结构的InGaP/GaAs HBT的相应性能作了比较。结果表明:在低于30 nm的一定范围内的缓变层厚度下,与突变的InGaP/GaAs HBT相比... 对改进型结构具有零导带势垒尖峰的缓变InGaP/AlGaAs/GaAs HBT器件的直流和高频特性进行了理论探讨,并同传统突变结构的InGaP/GaAs HBT的相应性能作了比较。结果表明:在低于30 nm的一定范围内的缓变层厚度下,与突变的InGaP/GaAs HBT相比,改进型结构的InGaP/AlGaAs/GaAs HBT具有更低的offset和开启电压、更强的电流驱动能力、更好的伏-安输出特性和高频特性。 展开更多
关键词 铟镓/化镓 异质结双极晶体管 伏-安输出特性 截止频率
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Selective Area Growth InGaAsP by MOVPE
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作者 邱伟彬 董杰 +1 位作者 王圩 周帆 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期342-346,共5页
The wide stripe (15μm) selective area growth (SAG) of InGaAsP by low pressure MOVPE is systematically investigated.The characteristics of the growth ratios,thickness enhancement factors,bandgap modulation,and composi... The wide stripe (15μm) selective area growth (SAG) of InGaAsP by low pressure MOVPE is systematically investigated.The characteristics of the growth ratios,thickness enhancement factors,bandgap modulation,and composition modulation vary with the growth conditions such as mask width,growth pressure.Flux of Ⅲ group precursors are outlined and the rational mechanism behind SAG MOVPE is explained.In addition,the surface spike of the SAG InGaAsP is shown and the course of it is given by the variation of Ⅴ/Ⅲ. 展开更多
关键词 SAG MOVPE INGAASP edge spike Ⅴ/Ⅲ ratio
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应用于LTE band1的高效率功率放大器设计
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作者 刘祖华 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2014年第5期450-454,共5页
设计了一种应用于LTE band1的带有自适应线性化偏置电路的高效率双链式HBT功率放大器。该电路基于InGaP/GaAs HBT工艺设计,通过控制偏置电路电压来选择高功率和低功率模式,对高功率模式仿真和测试结果进行分析。通过调试,最终高功率模... 设计了一种应用于LTE band1的带有自适应线性化偏置电路的高效率双链式HBT功率放大器。该电路基于InGaP/GaAs HBT工艺设计,通过控制偏置电路电压来选择高功率和低功率模式,对高功率模式仿真和测试结果进行分析。通过调试,最终高功率模式输出功率为28dBm时,增益为27.5dB,功率附加效率为43%,ACPR为-38dBc。在低功率模式输出功率为16dBm时有21%的功率附加效率。 展开更多
关键词 长期演进 功率放大器 铟镓/化镓异质结双极晶体管 功率附加效率
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In_(0.5)Ga_(0.5)P/GaAs二维空穴气p沟异质结场效应管
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作者 徐红钢 陈效建 +1 位作者 高建峰 郝西萍 《固体电子学研究与进展》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期276-280,共5页
提出了一种新颖的 Ga As基 p沟异质结场效应管 (p HFET)概念 ,器件采用了 In0 .5Ga0 .5P/ Ga As异质系统及二维空穴气 (2 DHG)原理以改善 Ga As的空穴输运特性。据此原理研制的器件可在室温下工作 ,其实验结果为 :室温下 ,饱和电流 Idss... 提出了一种新颖的 Ga As基 p沟异质结场效应管 (p HFET)概念 ,器件采用了 In0 .5Ga0 .5P/ Ga As异质系统及二维空穴气 (2 DHG)原理以改善 Ga As的空穴输运特性。据此原理研制的器件可在室温下工作 ,其实验结果为 :室温下 ,饱和电流 Idss=6 1m A/ mm,跨导 gm=4 1m S/ mm;77K下 ,饱和电流 Idss=94 m A/ mm,跨导 gm=6 1m S/ mm。预计该器件在微波和数字电路中极佳的电流密度及高频增益 ,因而具有良好的应用潜力。 展开更多
关键词 铟镓/化镓 二维空穴气 p沟异质结场效应晶体管
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In_(0.49)Ga_(0.51)P材料有序度对发光特性的影响
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作者 刘伟超 王海珠 +4 位作者 王嘉宾 王曲惠 范杰 邹永刚 马晓辉 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第6期862-868,共7页
In_(0.49)Ga_(0.51)P材料因与GaAs晶格匹配且具有较宽的能量带隙,在GaAs基短波长激光器和无铝激光器等研究方向上受到了广泛关注。不同领域的应用对In_(0.49)Ga_(0.51)P材料的性能提出了不同的需求,导致In_(0.49)Ga_(0.51)P材料的有序... In_(0.49)Ga_(0.51)P材料因与GaAs晶格匹配且具有较宽的能量带隙,在GaAs基短波长激光器和无铝激光器等研究方向上受到了广泛关注。不同领域的应用对In_(0.49)Ga_(0.51)P材料的性能提出了不同的需求,导致In_(0.49)Ga_(0.51)P材料的有序度发生变化,进而导致其发光特性发生改变。本文利用金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术,在半绝缘的GaAs衬底上开展In_(0.49)Ga_(0.51)P材料有序度对其发光特性影响的研究。通过改变硅烷(SiH_(4))和二乙基锌(DEZn)掺杂剂的掺杂流量和Ⅴ/Ⅲ比的方法来改变In_(0.49)Ga_(0.51)P材料的有序度。室温光致发光测试(PL)和低温PL测试结果表明,两种掺杂剂掺杂流量增加都会导致In_(0.49)Ga_(0.51)P有序度降低,从而使InGaP的发光波长蓝移。此外,Ⅴ/Ⅲ比增加会导致In_(0.49)Ga_(0.51)P有序度增加,使样品的发光波长红移。 展开更多
关键词 金属有机化学气相沉积 铟镓/镓 光致发光 故意掺杂
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New dark current component of InGaAs/InP HPDs confirmed by DLTS
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作者 WANGKaiyuan XUWeihong 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 1995年第1期20-23,共4页
The dark current of In_(0.47) Ga_(0.53) As/InP heterojunction photodiodes (HPDs) was analysed. We found that there exists a new dark current component──deep level-assisted tunnelling current.DLTS was used to measure... The dark current of In_(0.47) Ga_(0.53) As/InP heterojunction photodiodes (HPDs) was analysed. We found that there exists a new dark current component──deep level-assisted tunnelling current.DLTS was used to measure the In_(0.47)Ga_(0.53)As/InP HPDs. An electronic trap which has a thermal activation energy of O.44 eV, level concentration of 3.10×10 ̄(13)cm ̄(-3) and electronic capture cross section of 1.72×10 ̄(12)cm ̄2 has been found.It's existence results in the new tunnelling current. 展开更多
关键词 Photodiodes Characteristic Measurement Dark Current Tunnelling Current
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