高性能铪锆氧铁电材料与器件先进调控技术研究进展

重点阐述和总结了近年来面向高性能氧化铪基铁电材料和器件的先进调控技术,包括应力调控、氧空位调控、界面微结构调控以及尺寸调控等。通过电极材料对铁电薄膜施加拉伸应力以提高其铁电性能,应力工程为先进2D/3D结构铁电存储器(FRAM)开发提供了重要的技术手段;氧空位的存在降低了铁电相与稳定相之间的能量差从而稳定铁电相;界面微结构调控有效减少界面副反应和缺陷;尺寸调控可以限制晶粒大小、改善均匀性。这些调控技术不仅能显著提高单一铁电器件的稳定性和可靠性,还将在改善铁电存储阵列均匀性、铁电多值存储特性等方面发挥重要的作用。