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用于铬原子光刻的超高真空原子源的研制
被引量:
1
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作者
张文涛
李同保
《激光与红外》
CAS
CSCD
北大核心
2007年第2期155-157,共3页
原子光刻技术中,良好原子源的产生是最为基础的条件。针对实验中对原子束的具体要求,设计了一套超高真空原子源产生装置,主要参数为:系统工作真空度优于5.0×10-5Pa,铬原子源温度为1650℃,铬原子最可几速率为960m/s,原子炉口所喷射...
原子光刻技术中,良好原子源的产生是最为基础的条件。针对实验中对原子束的具体要求,设计了一套超高真空原子源产生装置,主要参数为:系统工作真空度优于5.0×10-5Pa,铬原子源温度为1650℃,铬原子最可几速率为960m/s,原子炉口所喷射出的铬原子数为N=1.5×1017s-1。
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关键词
原子
光刻
铬原子源
超高真空
下载PDF
职称材料
题名
用于铬原子光刻的超高真空原子源的研制
被引量:
1
1
作者
张文涛
李同保
机构
同济大学物理系
出处
《激光与红外》
CAS
CSCD
北大核心
2007年第2期155-157,共3页
基金
上海市科学技术发展基金项目(No.0259nm-034)
文摘
原子光刻技术中,良好原子源的产生是最为基础的条件。针对实验中对原子束的具体要求,设计了一套超高真空原子源产生装置,主要参数为:系统工作真空度优于5.0×10-5Pa,铬原子源温度为1650℃,铬原子最可几速率为960m/s,原子炉口所喷射出的铬原子数为N=1.5×1017s-1。
关键词
原子
光刻
铬原子源
超高真空
Keywords
atom lithography
chromium atomic sources
ultra-high vacuum
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
用于铬原子光刻的超高真空原子源的研制
张文涛
李同保
《激光与红外》
CAS
CSCD
北大核心
2007
1
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