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用于铬原子光刻的超高真空原子源的研制 被引量:1
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作者 张文涛 李同保 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2007年第2期155-157,共3页
原子光刻技术中,良好原子源的产生是最为基础的条件。针对实验中对原子束的具体要求,设计了一套超高真空原子源产生装置,主要参数为:系统工作真空度优于5.0×10-5Pa,铬原子源温度为1650℃,铬原子最可几速率为960m/s,原子炉口所喷射... 原子光刻技术中,良好原子源的产生是最为基础的条件。针对实验中对原子束的具体要求,设计了一套超高真空原子源产生装置,主要参数为:系统工作真空度优于5.0×10-5Pa,铬原子源温度为1650℃,铬原子最可几速率为960m/s,原子炉口所喷射出的铬原子数为N=1.5×1017s-1。 展开更多
关键词 原子光刻 铬原子源 超高真空
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