有色铬膜层的电沉积条件及其结构

本文介绍在草酸、磷酸和硒酸体系中在镍或镍铁合金阴极上电沉积彩虹色、金黄色和蓝色铬膜层的工艺条件,简述镀液组成的作用和沉积条件的影响。采用 X—光电子能谱等表面测试技术对三种不同颜色铬膜层的结构和组成进行表征。结果表明,膜层的颜色既与镀液组成、电沉积条件有关,也与膜层的组成及厚度有关。几种不同颜色铬膜层均由厚度各不相同的外层、中间层和交界层所组成。其中由铬的氧化物和/或其他化合物组成的中间层决定着膜层的颜色和性能。

金黄色铬膜层的脉冲电沉积及其表征

本文采用方波脉冲电流电沉积法,探索方波脉冲参数对金黄色铬膜层形成的影响,并采用xps等表面分析手段对膜层进行表征.实验结果表明:在CrO_3水溶液中采用脉冲电流沉积金黄色铬膜层,脉冲参数的改变直接影响沉积层的厚度及其色调.采用较高的脉冲电流及较小的脉冲周期和占空比,可获得结合力良好,颜色均匀的膜层.较适宜的条件为Ipc40～60A/dm^2;T40～60ms;t_1/t_1+t_2 2/10～4/10;沉积时间为30～60s;膜层主要由CrOOH,CrPO_4,Cr(O),H_2O及吸附于表面的CrO_4^(2-),PO_4^(3-)所组成.厚度范围为100～350nm.膜层表面形貌为团状沉积物.

反应溅射氮化铬装饰镀膜工艺研究

目前,国内应用于黑色金属表面仿黑装饰膜主要采用化学热处理方法,此方法主要缺点在于膜层致密性差、结合力弱及三废问题。用物理气相沉积技术制备氮化铬膜层可以克服化学热处理的这些弱点,且膜层具有耐磨、耐蚀等特点。

将平面用溅射装置改造为微粒用溅射装置

采用在真空室内加旋转筒的方法,将某平面用溅射装置改造为微粒用溅射装置。运行结果表明,利用筒体旋转的方法,可以在粒度100μm左右的微粒表面包覆均匀完整的铬膜层,微粒形状对表面涂层的均匀、完整、涂层速度等有重要影响,微粒被筒体带动的力主要为二者间的分子间作用力,离心力起的作用很小。若将用于平面镀涂的溅射装置改造为处理微粒,需对溅射装置中的溅射靶和真空系统进行较大的改造。

Co-Zr/Pd多层膜的磁性与结构

ＣｏＺｒ／Ｐｄ多层膜由高频溅射方法制得．磁性合金ＣｏＺｒ层厚度固定为１８ｎｍ，改变Ｐｄ层厚度０５—６ｎｍ．由振动样品磁强计测量，发现随Ｐｄ层厚度增加，磁化强度发生周期性振荡变化，周期约为１ｎｍ，这是由Ｐｄ层的极化振荡引起的．经Ｘ射线衍射测得Ｐｄ层厚度超过１３ｎｍ时，磁性合金ＣｏＺｒ层发生晶化，而厚的ＣｏＺｒ单层膜是非晶结构．Ｘ射线大角衍射图中的超晶格峰表明，在ＣｏＺｒ层和Ｐｄ层之间存在相关生长．而且还发现，随Ｐｄ层厚度增加，样品在垂直膜面方向的晶粒尺寸及ｆｃｃ（１１１）面的面间距发生周期性振荡现象．