某电镀厂失效铬镀液的回用试验研究

铬镀液在电镀行业中被广泛使用,使用过而失去效用的镀液被排出成为失效铬镀液,其对环境具有严重的危害,故需要谨慎处理。以黄石某电镀厂的失效铬镀液为研究对象,选用Ca(OH)_(2)+H_(2)O_(2)、Ba(OH)_(2)+H_(2)O_(2)、Ba(OH)_(2)及Ca(OH)_(2)为主要试剂,进行多种试验,探讨了去Fe^(3+)保Cr^(6+)的最佳条件。试验结果表明:向失效铬镀液中先加入15 mL H_(2)O_(2),再加入20 g Ba(OH)_(2),Fe^(3+)浓度由17.2 g/L降低到4.9 g/L,去除率为71.5%,此时Cr^(6+)浓度为188.4 g/L,Cr^(3+)为6.5 g/L,满足铬镀液的有效成分要求,达到了回用标准。对失效铬镀液进行回用处理,不仅能较大程度降低污染,而且节约经济成本,具有较高的实用价值。

细长窄深槽类带钩零件环保铬镀层的制备与表征

对细长窄深槽类带钩零件进行电镀,需在槽内壁表面获得完整的电镀覆盖层的同时要求细钩不烧焦,难度相当大,已经成为这类零件生产中长期存在的“瓶颈”环节。针对这一问题,本文以细长窄深槽类带钩零件为基体,制备了环保电镀铬层,并对镀层进行热处理。采用超景深显微镜、扫描电子显微镜(SEM)考察了镀层的外观质量和微观形貌;用能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)分析了镀层的元素组成和相结构;用显微硬度计测试了镀层的显微硬度,并采用划格法检测了镀层与基体的结合力。结果表明:槽内壁表面获得了完整的电镀覆盖层,细钩不烧焦,镀层光亮平滑;镀层与基体结合良好;镀层经热处理后,显微硬度略高于传统工艺制备的镀层硬度。

三价铬镀铬工艺对铬镀层耐蚀性的影响

通过极化曲线、交流阻抗图谱和铜加速醋酸盐雾试验,研究了镀液主要组分及工艺条件对三价铬镀液铬镀层耐蚀性的影响,并与六价铬镀液镀层进行了比较。试验结果表明:随主盐含量增加,镀层的耐蚀性有所下降;电镀工艺条件的影响是:pH增大,电镀时间过长,镀层耐蚀性下降。

一次三价铬镀铬发黄故障的分析及处理

描述了一次三价铬镀铬出现的发黄故障和处理措施。一种不易溶解的添加剂中间体在镀液中积累达到过饱和后,会生成胶体微粒而悬浮在镀槽中。电镀中,这些胶体微粒吸附在镀层上,导致镀层发黄。用活性炭处理镀液排除了这次镀铬故障。降低添加剂配方中这种中间体的浓度后,从源头上消除了导致这种故障的根源。

非晶态铬镀层表面的X光电子能谱研究

非晶态铬镀层具有优良的物理、化学和机械性能，根据非晶态铬镀层的特点用Ｘ－射线光电子能谱（ＸＰＳ）对其进行表面元素全分析和Ａｒ＋溅射深度剖析，发现所获非晶态铬镀层由Ｃｒ、Ｏ和Ｃ等元素组成。Ｏ和Ｃ元素不仅存在于镀层表面，而且存在于整个镀层中。其中Ｏ是以－ＣＯＯＨ和吸附Ｈ２Ｏ及Ｃｒ的氧化物形式存在；Ｃ以－ＣＯＯＨ和石墨存在；而Ｃｒ则以Ｃｒ、Ｃｒ２Ｏ３、ＣｒＯ２及ＣｒＯＯＨ形式存在。

碳钢基体环保型三价铬镀铬工艺及镀铬层性能

研究了以碳钢为基体的环保型三价铬镀铬工艺。考察了阴极电流密度对镀铬层的表面形貌、显微硬度和耐盐雾腐蚀性能的影响,以及电镀时间对镀铬层的厚度、表面粗糙度、显微硬度和耐盐雾腐蚀性能的影响。结果表明:适当地提高阴极电流密度,有利于改善镀铬层的表面平整度;当阴极电流密度为25 A/dm^2时,镀铬层的显微硬度达到最高值8 038 MPa,并且表现出良好的耐盐雾腐蚀性能。镀铬层的厚度和表面粗糙度与电镀时间基本都成正相关关系。延长电镀时间,有利于提高镀铬层的显微硬度和耐盐雾腐蚀性能。

三价铬镀铬废水的处理方法

利用亚铁离子与钙离子的协同效应,用亚铁离子和钙离子沉淀废水中的羧酸配位剂,从配合物中释放出来三价铬生成氢氧化铬沉淀,从而有效去除三价铬。用次氯酸钠溶液作氧化剂,降低废水的COD。废水处理方法简单、速度快、成本低,处理结果满足GB 21900-2008《电镀污染物排放标准》的要求。

氯化物型三价铬镀铬液中硼酸的分析方法

为了解决铵盐对测定硼酸的干扰问题,制定了测定氯化物型三价铬镀铬液中硼酸的新方法。用草酸钾掩蔽Cr^(3+)和Fe^(3+)离子。用甘露醇与硼酸反应生成较强的配合酸,以溴麝香草酚蓝作指示剂(变色范围为pH=6.0~7.6),用氢氧化钠标准溶液滴定配合酸。测定结果的相对平均偏差为0.45%,回收率为99.88%~101.24%。

不含铵盐的三价铬镀液中硼酸的分析

研究了不含铵盐的三价铬镀液中硼酸的分析方法。用草酸钾掩蔽三价铬,在弱酸性条件下草酸钾与三价铬离子生成络合物。用甘露醇与硼酸反应生成较强的络合酸,以酚酞作指示剂,用氢氧化钠标准滴定溶液滴定。镀液中的其它组分对测定无影响,分析结果的相对平均偏差为0.17%。

从三价铬镀液电沉积非晶态Cr—C镀层的研究

1 前言 非晶态材料具有优良的物理、化学和力学性能,已获得较为广泛的应用。 制造非晶态材料的方法有急冷法,离子注入法,CVD法,激光及化学镀和电镀等,其中电镀法所用设备简单,可制成面积大和形状复杂的非晶态薄层材料,适合于连续作业和大规模生产,且可制备其它方法无法获得的非晶态材料。

螯合沉淀法去除三价铬镀铬液中的镍和铜杂质

向硫酸盐体系或氯化物体系三价铬镀白铬溶液中加入二乙基二硫代氨基甲酸钠(DDTC)螯合剂,令其中的镍和铜杂质生成沉淀,再配合活性炭吸附残留的DDTC以及可能由DDTC引入的有机杂质,过滤后可令镀液恢复正常。该法简单,速度快,克服了传统电解法耗时长的问题。

添加剂消耗不平衡引起的三价铬镀铬故障

描述了一次硫酸盐三价铬镀铬出现镀层发雾和发花故障的原因及处理措施。由于添加剂中糖精钠与其他成分消耗不平衡,因此按糖精钠的分析结果比工艺上限高来维护镀液,势必造成表面活性剂一类的中间体含量严重偏低。向镀槽中适量补充添加剂,使表面活性剂中间体含量达到工艺要求之余,过量的糖精钠不会对镀液造成影响,于是故障得到了排除。

伏安法快速测定黑铬镀液中硝酸钠的浓度

测量镍盘电极在黑铬镀液中的阴极极化曲,观察到硝酸钠存在时出现一个新的阴极电流峰,且在一定的硝酸钠浓度范围内（0.3～1.5g/L）,电流峰值随着硝酸钠的浓度线性地增大。因此,可用伏安法快速测定黑铬镀液中硝酸钠的浓度。

硫酸盐三价铬镀液中次磷酸钠浓度对不锈钢阳极电化学溶出的抑制作用

为了进一步完善以316不锈钢为阳极的硫酸盐三价铬镀铬新工艺,考察了镀液中次磷酸钠等对316不锈钢阳极电化学溶出的抑制作用。利用Hull槽试验、能量射散谱(EDS)和扫描电子显微镜(SEM)研究了次磷酸钠浓度对镀层外观、组分和表面形貌的影响。结果表明,次磷酸钠可以有效地抑制316不锈钢阳极的电化学溶出:当其浓度为0.020 mol/L时,316不锈钢阳极的电化学溶出量由无次磷酸钠时的116.7 mg/(A.h)下降到13.1mg/(A.h);浓度低于0.040 mol/L时,Hull试样外观没有变化;浓度低于0.060 mol/L时,镀层表面形貌无明显变化;镀层中含磷量随次磷酸钠浓度的提高而逐渐增加。

六价铬镀铬中的有害气体浓度监测系统

设计了一种用于监测六价铬镀铬中的有害气体浓度的监测系统。监测系统由硬件模块和软件模块构成。概述了硬件模块的结构、功能,以及软件模块软件算法的设计思路及其实现步骤。通过模拟实验,对监测系统的有效性进行验证。实验结果显示:监测系统的响应时间短、报警误差和监测误差均较低,证实其能够用于监测六价铬镀铬中的有害气体浓度,监测结果可以作为控制有害气体浓度的参考依据。

三价铬镀铬液中六价铬、铜、铁和镍杂质的分析方法

介绍了三价铬镀铬溶液中六价铬、铜、铁和镍杂质的分析方法。利用二苯氨基脲在酸性溶液中与六价铬的特效显色反应,用光度法测定三价铬镀铬溶液中的六价铬杂质。利用二乙基二硫代氨基甲酸钠与铜离子生成稳定黄棕色络合物的特性,用光度法测定镀液中铜杂质。利用钛铁试剂与三价铁离子在弱碱性条件下生成稳定的红棕色络合物的特性,用光度法测定镀液中的铁杂质。利用丁二酮肟与镍离子生成稳定的红色络合物的特性,用光度法测定镀液中的镍杂质。

三价铬镀铬液中三价铬的碘量法分析

改进了三价铬镀铬液中三价铬的分析方法。在弱酸性条件下,用过硫酸铵作氧化剂将三价铬氧化成六价铬,用碘量法测定六价铬,得到三价铬的质量浓度。实验表明,在弱酸性条件下,不加硝酸银作催化剂,用过硫酸铵能将三价铬完全氧化成六价铬。分析结果的相对平均偏差为0.13%。本法简单而准确,分析成本低,标准溶液稳定,优于传统方法。

工艺参数对三价铬镀铬层粗糙度的影响

通过单因素实验研究了直流电镀和脉冲电镀的工艺参数对镀铬层粗糙度的影响。采用直流电镀,pH值较低时镀层粗糙度增大较明显,镀层粗糙度随电流密度的增大而增大,基体粗糙度对镀层粗糙度也具有较大的影响。采用脉冲电镀,占空比、频率、平均电流密度对镀层粗糙度有较大的影响;当占空比为40%,频率为80Hz时,镀层粗糙度的增大最显著。镀铬层的微观形貌呈半球凸起状;在脉冲条件下,镀层表面的凸起数量更多、形状和大小更均匀。

氯化物三价铬镀铬液中氯离子和溴离子总浓度的测定

制定了氯化物三价铬镀铬液中氯离子和溴离子总浓度的测定方法。用硼酸调节试液pH大约至6.5,以饱和铬酸钾溶液作指示剂,用硝酸银滴定法测定氯离子和溴离子。试验表明,在pH=6.5的条件下,镀液中的铵根离子不能与银离子生成配合物,对测定无干扰。本法的相对平均偏差为0.26%,回收率为99.94%~101.99%。

三价铬镀液电镀黑铬工艺研究

经正交试验确定了三价铬电镀黑铬的最佳镀液组成和工艺条件,并对优选的三价铬镀液及镀层进行性能测试,结果表明:镀液的分散能力约为15%;镀液的覆盖能力约为95%;还测定了几种镀液的阴极极化曲线,并进行了比较,最优镀液的阴极极化曲线的极化度最大。电镀5 m in的镀层厚度约为0.5μm,镀层的主要组分为C r、O、Co、P和N a。