制造工艺对粉末冶金铬靶性能的影响研究

对粉末冶金铬靶的制造工艺及其对铬靶材料性能的影响进行了详细的试验研究与讨论，获得优化的工艺组合．

磁控溅射用高纯铬靶材的研究现状及发展趋势

介绍了纯铬靶材的主要制备工艺流程及研究现状,介绍了采用热等静压方法制备的纯铬靶材圆柱体致密度高达99.86%,晶粒细小、溅射性能优异;阐述了高纯溅射铬靶材的特性,分析了高纯铬靶材存在的问题;探讨和展望了高纯铬溅射靶材的发展趋势。

粉末冶金法制高纯溅射铬靶材的方法

通过试验重点对粉末冶金法制备高纯溅射铬靶材的传统烧结工艺进行了分析和优化研究。试验结果表明,采用"模压+烧结"或者"冷等静压+烧结"的方式加工靶材,并合理控制烧结温度,能够有效保证靶材的密度。

具有国际先进水平的铬靶铜靶钼靶医用X线诊断机自行设计安装成功

医院一般常用的是钨靶射线管X线诊断机。这种诊断机对人体软组织病变及非金属异物往往不能显示清晰影象,分辨率低,因而不能解决诊断问题。近年来,国外杂志有刊登用钼靶X线诊断机普查乳腺癌的报迸及产品广告。粉碎'四人帮',思想大解放。在英明领袖华主席抓纲治国、抓纲治军战略决策指引下,广大群众长期被'四人帮'压抑的革命干劲和聪明才智,一下子迸发出来。为了填补我国在软组织病变和非金属异物X线诊断定位上的空白。

国外铬硅溅射靶材进展

溅射方法是指将各种蒸发材料(如磁性材料、电阻材料等)加工成靶,用氩等离子体轰击,使待蒸发材料溅射到基板、衬片等表面上形成薄膜。靶的成份可选择和调节,因此可成形各种成份和功能的薄膜。 这种溅射技术创立于70年代初期,主要用于物理学领域。随着磁控管溅射技术的研制成功,成膜速度大大提高,且薄膜厚度均匀,应用范围迅速扩大。