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超灵敏小型回旋加速器质谱计的Cs溅射负离子源的研制和性能
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作者 斯厚智 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2001年第B12期244-249,共6页
一台用于超灵敏质谱(AMS)的带有多靶机构的强流溅射负离子源己经研制完成,为了满足AMS的特殊要求,源的设计着重解决提高流强、降低记忆效应及改善发射度等方面的问题,并且十分注意性能的可靠性与稳定性。样机在试验台架上进行了一年... 一台用于超灵敏质谱(AMS)的带有多靶机构的强流溅射负离子源己经研制完成,为了满足AMS的特殊要求,源的设计着重解决提高流强、降低记忆效应及改善发射度等方面的问题,并且十分注意性能的可靠性与稳定性。样机在试验台架上进行了一年多的调试并进一步作了改进,迄今已引出了10μA Be0、5μA Al、4.5μA Fe、350μA C-以及其他十余个离子品种,100μA以下测得的归一化发射度为(2-4)πmm.mrad.MeV1/2,对记忆效应与电离效率也进行了初步测定。 展开更多
关键词 负离子 溅射 记忆效应 电离效率 超灵敏小型回旋加速器质谱计 铯束溅射源 性能
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