期刊文献+
共找到4篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
铸造单晶硅性能和应用分析 被引量:1
1
作者 明亮 黄美玲 +3 位作者 段金刚 王锋 黄少文 周浪 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第1期335-340,共6页
以G6型多晶硅定向凝固铸锭炉生长的铸造单晶硅为研究对象,对其性能特点及应用进行分析。铸造单晶硅中含有位错、亚晶粒、多晶晶粒、间隙态元素和硬质点等缺陷。在铸造单晶硅制备过程中,因长晶界面不平及杂质存在的原因,硅锭生长时存在... 以G6型多晶硅定向凝固铸锭炉生长的铸造单晶硅为研究对象,对其性能特点及应用进行分析。铸造单晶硅中含有位错、亚晶粒、多晶晶粒、间隙态元素和硬质点等缺陷。在铸造单晶硅制备过程中,因长晶界面不平及杂质存在的原因,硅锭生长时存在较大的应力,致使硅原子排列出现错排,从而导致位错、亚晶粒和多晶晶粒的产生,其中多晶晶粒的晶向主要有(331)等;在硅锭的中上部易产生位错,并随着晶体生长大量增殖。铸造单晶硅中的间隙态元素Fe和O的分布规律和铸造多晶硅相似;硬质点的主要成分是氮化硅和碳化硅。缺陷密度较低的铸造单晶片制作成钝化发射极背面接触(PERC)太阳电池,其光电转换效率达21.7%,较直拉单晶硅PERC太阳电池低0.4%。 展开更多
关键词 晶体生长 位错 电池效率 铸造单晶硅 性能
下载PDF
电注入退火条件对铸造单晶硅PERC电池抗LID效应影响的研究 被引量:1
2
作者 王泽辉 沈鸿烈 +4 位作者 魏青竹 倪志春 李树兵 李跃 张树德 《半导体光电》 CAS 北大核心 2019年第6期771-775,780,共6页
铸造单晶硅太阳电池由于性价比高,在晶硅太阳能市场占有越来越重要的地位。文章以B和Ga共掺杂的铸造单晶硅钝化发射和背面(PERC)电池为研究对象,采用现有工业生产的电注入退火方法,分别进行了260和180℃温度下的不同电注入条件退火处理... 铸造单晶硅太阳电池由于性价比高,在晶硅太阳能市场占有越来越重要的地位。文章以B和Ga共掺杂的铸造单晶硅钝化发射和背面(PERC)电池为研究对象,采用现有工业生产的电注入退火方法,分别进行了260和180℃温度下的不同电注入条件退火处理和随后的光致衰减(LID)效应分析。分析表明:经180℃的电注入退火处理,电池效率的变化率为-0.64%,经60kW·h的光照后,电池效率比退火前降低了2.79%。而经过260℃的电注入退火处理后,电池效率提高1.12%,且经60kW·h的光照后,电池效率比退火前仅下降1.96%。这些结果说明,260℃的电注入退火条件更适用于铸造单晶硅电池的抗LID处理。 展开更多
关键词 PERC电池 LID效应 铸造单晶硅 电注入退火 电学性能
下载PDF
p型铸造单晶硅光注入再生后LID与LeTID的机制分析
3
作者 程尚之 周春兰 王文静 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第11期14-19,共6页
光致衰减(LID)与热辅助光诱导衰减(LeTID)是晶硅太阳电池的2种主要衰减,其典型光注入条件分别为25℃、1 sun(LID环境)和75℃、1 sun(LeTID环境)。从有效少子寿命的角度研究p型铸造单晶硅的衰减机制。200℃、7 suns光注入处理过程中样品... 光致衰减(LID)与热辅助光诱导衰减(LeTID)是晶硅太阳电池的2种主要衰减,其典型光注入条件分别为25℃、1 sun(LID环境)和75℃、1 sun(LeTID环境)。从有效少子寿命的角度研究p型铸造单晶硅的衰减机制。200℃、7 suns光注入处理过程中样品少子寿命先下降后恢复,这一过程称为光注入再生处理。在LID环境下,无光注入再生处理的样品具有快速与慢速2个衰减阶段,光注入再生处理的样品只有快速衰减阶段。计算两组样品带隙中央附近的缺陷电子/空穴俘获截面比k约为7,表明其中缺陷与直拉单晶硅(Cz-Si)中的BO缺陷相同。对光注入再生处理的样品,在LeTID环境下的衰减阶段计算出k约为35,此数值与多晶硅(mc-Si)中LeTID缺陷的一致。 展开更多
关键词 光伏 铸造单晶硅 光致衰减 热辅助光诱导衰减 载流子寿命 缺陷
下载PDF
Single-Seed Casting Large-Size Monocrystalline Silicon for High-Efflciency and Low-Cost Solar Cells 被引量:1
4
作者 Bing Gao Satoshi Nakano +3 位作者 Hirofumi Harada Yoshiji Miyamura Takashi Sekiguchi Koichi Kakimoto 《Engineering》 SCIE EI 2015年第3期378-383,共6页
To grow high-quality and large-size monocrystalline silicon at low cost, we proposed a single-seed casting technique. To realize this technique, two challenges—polycrystalline nucleation on the crucible wall and disl... To grow high-quality and large-size monocrystalline silicon at low cost, we proposed a single-seed casting technique. To realize this technique, two challenges—polycrystalline nucleation on the crucible wall and dislocation multiplication inside the crystal—needed to be addressed. Numerical analysis was used to develop solutions for these challenges. Based on an optimized furnace structure and operating conditions from numerical analysis, experiments were performed to grow monocrystalline silicon using the single-seed casting technique. The results revealed that this technique is highly superior to the popular high-performance multicrystalline and multiseed casting mono-like techniques. 展开更多
关键词 single-seed casting monocrystalline silicon polycrystalline nucleation dislocation multiplication multicrystalline silicon
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部