用于投影光刻机掩模自动对准的锁相干涉技术

本文叙述了用于投影光刻机中的一种掩模对准技术。在片子与掩模的对准中,通过一种锁相干涉法确定其偏移量。此方法采用的对准图形是一种交叉的栅格,用氦氖激光束照明。经过衍射和干涉后得到了一种谐波强度信号,信号的相位表示了掩模与片子的相对位移。用一个电流计扫描仪驱动一块可倾斜的玻璃片来实现相位调制和精密对准。包括套准和精密对准在内总的对准操作用一个PC单元控制,具有毫微米的套准精度和低于0.3秒的对准周期。此方法特别适用于缩小步进投影光刻机中的逐场对准。最后讨论了其理论研究与试验的结果。

表面粗糙度测量的磁光位相调制和锁相干涉

提出了一种表面粗糙度测量的新方法．该方法采用了微分偏振干涉的原理，利用由法拉第磁光调制器所组成的调制系统对偏振干涉光路的位相进行调制，利用锁相干涉原理对位相进行探测．该方法可实现无参考面快速非接触测量，在普通实验条件下，也可保持良好的稳定性．实验装置即可给出表面的轮廓又可给出其它统计数据，其横向分辨率为１．２μｍ，纵向为２ｎｍ．