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PLZT薄膜的溅射沉积和热处理
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作者 雷永明 徐梅娣 郭懋端 《上海工程技术大学学报》 CAS 1999年第4期243-246,共4页
用磁控射频溅射方法在不加热的硅衬底上沉积生长锆钛酸铅镧(PLZT)薄膜。由混浇法制备了两只氧化物靶材PLZT(5/65/35)和(9/65/35)。初生态薄膜主要是非晶态,所希望的钙钛矿相结构由后处理形成。研究了不同退火条件下焦绿石相... 用磁控射频溅射方法在不加热的硅衬底上沉积生长锆钛酸铅镧(PLZT)薄膜。由混浇法制备了两只氧化物靶材PLZT(5/65/35)和(9/65/35)。初生态薄膜主要是非晶态,所希望的钙钛矿相结构由后处理形成。研究了不同退火条件下焦绿石相和钙钛矿相的转变,实验表明氧气氛下由常规退火(LFA)和快速退火(RTA)可形成钙钛矿相PLZT薄膜。 展开更多
关键词 溅射沉积 热处理 PLZT薄膜 磁控射频溅射 钙钛矿相 退火 锆钛酸铅镧陶瓷薄膜 铁电薄膜
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