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PLZT薄膜的溅射沉积和热处理
1
作者
雷永明
徐梅娣
郭懋端
《上海工程技术大学学报》
CAS
1999年第4期243-246,共4页
用磁控射频溅射方法在不加热的硅衬底上沉积生长锆钛酸铅镧(PLZT)薄膜。由混浇法制备了两只氧化物靶材PLZT(5/65/35)和(9/65/35)。初生态薄膜主要是非晶态,所希望的钙钛矿相结构由后处理形成。研究了不同退火条件下焦绿石相...
用磁控射频溅射方法在不加热的硅衬底上沉积生长锆钛酸铅镧(PLZT)薄膜。由混浇法制备了两只氧化物靶材PLZT(5/65/35)和(9/65/35)。初生态薄膜主要是非晶态,所希望的钙钛矿相结构由后处理形成。研究了不同退火条件下焦绿石相和钙钛矿相的转变,实验表明氧气氛下由常规退火(LFA)和快速退火(RTA)可形成钙钛矿相PLZT薄膜。
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关键词
溅射沉积
热处理
PLZT薄膜
磁控射频溅射
钙钛矿相
退火
锆钛酸铅镧陶瓷薄膜
铁电薄膜
下载PDF
职称材料
题名
PLZT薄膜的溅射沉积和热处理
1
作者
雷永明
徐梅娣
郭懋端
机构
上海冶金研究所
出处
《上海工程技术大学学报》
CAS
1999年第4期243-246,共4页
文摘
用磁控射频溅射方法在不加热的硅衬底上沉积生长锆钛酸铅镧(PLZT)薄膜。由混浇法制备了两只氧化物靶材PLZT(5/65/35)和(9/65/35)。初生态薄膜主要是非晶态,所希望的钙钛矿相结构由后处理形成。研究了不同退火条件下焦绿石相和钙钛矿相的转变,实验表明氧气氛下由常规退火(LFA)和快速退火(RTA)可形成钙钛矿相PLZT薄膜。
关键词
溅射沉积
热处理
PLZT薄膜
磁控射频溅射
钙钛矿相
退火
锆钛酸铅镧陶瓷薄膜
铁电薄膜
Keywords
PLZT thin films Rf magnetron sputtering Perovskite phase Annealing
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
TM22 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
PLZT薄膜的溅射沉积和热处理
雷永明
徐梅娣
郭懋端
《上海工程技术大学学报》
CAS
1999
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