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近红外波段锑基铋掺杂薄膜厚度对光学常数与光学带隙的影响
被引量:
2
1
作者
逯鑫淼
姜来新
+1 位作者
吴谊群
王阳
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第11期324-328,共5页
采用磁控溅射法制备了不同厚度的锑基铋掺杂薄膜,用X射线衍射(XRD)和透射电子显微镜(TEM)研究了薄膜结构随厚度的变化。利用椭圆偏振法测定了样品薄膜在近红外波段的光学常数与光学带隙,研究了膜厚对样品薄膜光学常数和光学带隙的影响...
采用磁控溅射法制备了不同厚度的锑基铋掺杂薄膜,用X射线衍射(XRD)和透射电子显微镜(TEM)研究了薄膜结构随厚度的变化。利用椭圆偏振法测定了样品薄膜在近红外波段的光学常数与光学带隙,研究了膜厚对样品薄膜光学常数和光学带隙的影响。结果表明,膜厚从7nm增加至100nm时,其结构由非晶态转变为晶态。在950~2200nm波段,不同厚度薄膜样品的折射率在4.6~8.9范围,消光系数在0.6~5.8范围,光学带隙在0.32~0.16eV范围。随着膜厚的增加,薄膜的折射率和光学带隙减小,而消光系数升高;光学常数在膜厚50nm时存在临界值,其原因是临界值前后薄膜微观结构变化不同。
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关键词
薄膜
光学常数
膜厚
锑基铋掺杂薄膜
近红外波段
原文传递
题名
近红外波段锑基铋掺杂薄膜厚度对光学常数与光学带隙的影响
被引量:
2
1
作者
逯鑫淼
姜来新
吴谊群
王阳
机构
中国科学院上海光学精密机械研究所
黑龙江大学无机功能材料化学教育部重点实验室
出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第11期324-328,共5页
基金
国家自然科学基金(61137002)资助课题
文摘
采用磁控溅射法制备了不同厚度的锑基铋掺杂薄膜,用X射线衍射(XRD)和透射电子显微镜(TEM)研究了薄膜结构随厚度的变化。利用椭圆偏振法测定了样品薄膜在近红外波段的光学常数与光学带隙,研究了膜厚对样品薄膜光学常数和光学带隙的影响。结果表明,膜厚从7nm增加至100nm时,其结构由非晶态转变为晶态。在950~2200nm波段,不同厚度薄膜样品的折射率在4.6~8.9范围,消光系数在0.6~5.8范围,光学带隙在0.32~0.16eV范围。随着膜厚的增加,薄膜的折射率和光学带隙减小,而消光系数升高;光学常数在膜厚50nm时存在临界值,其原因是临界值前后薄膜微观结构变化不同。
关键词
薄膜
光学常数
膜厚
锑基铋掺杂薄膜
近红外波段
Keywords
thin films
optical constants
film thickness
antimony-based bismuth-doped film
near-infrared region
分类号
O472 [理学—半导体物理]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
近红外波段锑基铋掺杂薄膜厚度对光学常数与光学带隙的影响
逯鑫淼
姜来新
吴谊群
王阳
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
2
原文传递
已选择
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参考文献
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