O484.1 2002064323透明导电薄膜最佳掺杂含量的理论计算=Theoreticalcalculation of optimum doping content for oxidesemiconductor films[刊,中]/范志新(河北工业大学应用物理系.天津(300130))∥半导体学报.—2002,23(6).—589-592...O484.1 2002064323透明导电薄膜最佳掺杂含量的理论计算=Theoreticalcalculation of optimum doping content for oxidesemiconductor films[刊,中]/范志新(河北工业大学应用物理系.天津(300130))∥半导体学报.—2002,23(6).—589-592分析了几种氧化物半导体透明导电薄膜材料的掺杂改性的实验结果,建立了薄膜材料的某一物理性能与晶体结构、制备方法和掺杂剂含量之间的联系。展开更多
文摘O484.1 2002064323透明导电薄膜最佳掺杂含量的理论计算=Theoreticalcalculation of optimum doping content for oxidesemiconductor films[刊,中]/范志新(河北工业大学应用物理系.天津(300130))∥半导体学报.—2002,23(6).—589-592分析了几种氧化物半导体透明导电薄膜材料的掺杂改性的实验结果,建立了薄膜材料的某一物理性能与晶体结构、制备方法和掺杂剂含量之间的联系。