锡基氧化物薄膜的制备与电化学性能

制备了SnOx(1(?)x(?)2)薄膜,研究了氧化温度对薄膜形貌、结构及性质的影响．结果表明,SnOx薄膜表面光滑、厚度均匀且致密,由纳米尺寸、分布均匀的晶形颗粒组成,颗粒粒径随着氧化温度的升高而逐渐变大;SnOx薄膜电极初始可逆容量随着氧化温度的升高而降低,首次容量损失则随氧化温度的升高而增大．在温度为600℃氧化2 h,SnOx薄膜的可再充放电性能最好．