溅射SnO_xF_y与SnN_xF_y减反射涂层

反应高频磁控溅射SnO_xF_y与SnN_xF_y膜的沉积率约达50nm/min,这些膜的折射率约1.7,可用于作为金属氧化物涂层的减反膜。给出了SnO_xF_y/SnO_x与SnN_xF_y/SnO_x,多层膜的减反射性能。