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极紫外光源锡液滴靶的检测研究 被引量:4
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作者 陈子琪 王新兵 +2 位作者 左都罗 陆培祥 吴涛 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第12期39-43,共5页
采用正交放置的两路CCD,基于图像采集及处理的方法,建立了极紫外光源锡液滴靶发生装置的锡液滴检测系统,可以实时监测锡液滴的运动状态及稳定性。对本实验室频率为34kHz的锡靶发生器产生的液滴进行了锡液滴监测实验。监测结果显示,锡液... 采用正交放置的两路CCD,基于图像采集及处理的方法,建立了极紫外光源锡液滴靶发生装置的锡液滴检测系统,可以实时监测锡液滴的运动状态及稳定性。对本实验室频率为34kHz的锡靶发生器产生的液滴进行了锡液滴监测实验。监测结果显示,锡液滴直径约为137μm,平均间距为375μm,稳定性较好,并对水平面上横向稳定性进行了分析。 展开更多
关键词 极紫外光源 激光等离子体 锡液滴 稳定性
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100 kHz重复频率锡液滴靶研究 被引量:2
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作者 孙海轶 王关德 +14 位作者 李学红 彭凯伦 邹家杰 彭宇杰 王成 冷雨欣 徐静浩 范李立 袁丰华 李中梁 步扬 王天泽 张子怡 新刚 林楠 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2023年第23期178-183,共6页
锡液滴发生器是激光等离子体型极紫外(LPP-EUV)光刻光源中最重要的核心部件之一。光刻光源要求锡液滴靶具备高重复频率、小直径且稳定性好的特性。综述了中国科学院上海光学精密机械研究所EUV光源团队近年来在液滴发生器方面的研究进展... 锡液滴发生器是激光等离子体型极紫外(LPP-EUV)光刻光源中最重要的核心部件之一。光刻光源要求锡液滴靶具备高重复频率、小直径且稳定性好的特性。综述了中国科学院上海光学精密机械研究所EUV光源团队近年来在液滴发生器方面的研究进展,包括液滴直径、重复频率、间距、位置和稳定性等。现阶段研制的锡液滴发生器,在100 kHz频率下喷射的锡液滴直径约为40μm,间距约为230μm,工作时长接近5 h。锡液滴在10 s短时间内,竖直和水平方向的位置不稳定性分别约为2μm和1μm。未来锡液滴的可用性性能(如液滴直径、工作时长和长时间的位置稳定性)还需进一步提升。 展开更多
关键词 极紫外 光刻光源 发生器 锡液滴
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双脉冲激光锡等离子体数值模拟研究
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作者 陈柳安 吴涛 +2 位作者 王新兵 马修泉 陆培祥 《武汉工程大学学报》 CAS 2023年第4期442-449,共8页
为了提高13.5 nm激光锡等离子体光源的极紫外辐射转换效率,双脉冲技术是一种行之有效的方法,通过数值模拟获得基于双脉冲激光驱动的液滴锡靶等离子体参数的演化行为与辐射机理对设计优化实验方案具有重要意义。利用Flash代码数值模拟研... 为了提高13.5 nm激光锡等离子体光源的极紫外辐射转换效率,双脉冲技术是一种行之有效的方法,通过数值模拟获得基于双脉冲激光驱动的液滴锡靶等离子体参数的演化行为与辐射机理对设计优化实验方案具有重要意义。利用Flash代码数值模拟研究了双脉冲激光辐照液滴锡靶产生的等离子体在不同波长组合及延时情形下的演化行为,研究结果表明:在双脉冲的时间延时间隔恒定时,主脉冲激光能量的增加会提高等离子体羽辉膨胀速度,导致更高的等离子体温度。随着CO_(2)激光与光纤激光脉冲之间延时的增加,靶材表面等离子体的峰值电子密度逐渐减少,渐趋于临界电子密度,等离子体冕区的电子温度呈下降趋势,且由等温膨胀转换为绝热膨胀的时间间隔增加。CO_(2)激光与光纤激光组合驱动的锡等离子体具有更加合适的极紫外辐射等离子体温度,具有获得较高极紫外辐射转换效率的潜力。 展开更多
关键词 激光产生等离子体 光纤激光 CO_(2)激光
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浮法玻璃表面锡类颗粒污染物起源及治理措施分析 被引量:2
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作者 郭卫 郭晓丽 王艳霞 《玻璃》 2019年第1期38-42,共5页
通过对浮法玻璃生产线渣箱内部污染物的分析、污染物与锡槽内气流分析,确定了浮法玻璃板表面锡类污染物颗粒主要来源于锡槽内锡液的汽化蒸发产生的锡液滴,提出了通过采取措施减少锡槽内锡液的汽化蒸发量,减少锡槽空间内气流中的锡液滴... 通过对浮法玻璃生产线渣箱内部污染物的分析、污染物与锡槽内气流分析,确定了浮法玻璃板表面锡类污染物颗粒主要来源于锡槽内锡液的汽化蒸发产生的锡液滴,提出了通过采取措施减少锡槽内锡液的汽化蒸发量,减少锡槽空间内气流中的锡液滴浓度来预防浮法玻璃锡类污染物,达到减少玻璃板表面污染的目的。 展开更多
关键词 类颗粒污染物 锡液滴 浮法玻璃
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脉冲激光辐照液滴锡靶等离子体极紫外辐射的实验研究 被引量:6
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作者 陈鸿 兰慧 +5 位作者 陈子琪 刘璐宁 吴涛 左都罗 陆培祥 王新兵 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第7期247-252,共6页
采用波长13.5 nm的极紫外光作为曝光光源的极紫外光刻技术是最有潜力的下一代光刻技术之一,它是半导体制造实现10 nm及以下节点的关键技术.获得极紫外辐射的方法中,激光等离子体光源凭借转换效率高、收集角度大、碎屑产量低等优点而被... 采用波长13.5 nm的极紫外光作为曝光光源的极紫外光刻技术是最有潜力的下一代光刻技术之一,它是半导体制造实现10 nm及以下节点的关键技术.获得极紫外辐射的方法中,激光等离子体光源凭借转换效率高、收集角度大、碎屑产量低等优点而被认为是最有前途的极紫外光源.本文开展了脉冲TEA-CO2激光和Nd:YAG激光辐照液滴锡靶产生极紫外辐射的实验,对极紫外辐射的谱线结构以及辐射的时空分布特性进行了研究.实验发现:与TEA-CO2激光相比,较高功率密度的Nd:YAG激光激发的极紫外辐射谱存在明显的蓝移;并且激光等离子体光源可以认为是点状光源,其极紫外辐射强度随空间角度变化近似满足Lambertian分布. 展开更多
关键词 极紫外光源 均匀 激光等离子体 辐射分布
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Undercooling and Solidification of Sn-Pb Alloy Droplets Prepared by Uniform Droplet Spray 被引量:6
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作者 吴萍 陈新亮 +4 位作者 姜恩永 赵慈 杜洪明 田雅丽 ANDO Teiichi 《Transactions of Tianjin University》 EI CAS 2003年第2期89-92,共4页
The undercooling and solidification of 150 μm and 185 μm droplets of Sn 5%Pb alloy prepared by the uniform droplet spray (UDS) process have been investigated. The enthalpy of the droplet has been measured by non adi... The undercooling and solidification of 150 μm and 185 μm droplets of Sn 5%Pb alloy prepared by the uniform droplet spray (UDS) process have been investigated. The enthalpy of the droplet has been measured by non adiabatic calorimetric method as a function of the flight distance. A droplet solidification simulation model has been used to compare with the experimental data. The results show that the enthalpy released by the droplets in the calorimeter is 11.88 J/g and 22.29 J/g less than the simulated values up to a certain flight distance at 0.485 m and 0.460 m for 150 μm and 185 μm droplets respectively, but agrees with the expected values at larger distance. The nucleation of the droplets takes place at the distance where the experimental and simulated enthalpy values agree. The droplets quenched before nucleation solidify into metastable supersaturated solid solution and have large undercooling. The formation of the metastable structure in the droplets has been verified metallographically and by calculations based on a thermodynamic model. 展开更多
关键词 UNDERCOOLING Sn Pb alloy DROPLET SOLIDIFICATION
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极紫外光刻光源的研究进展及发展趋势 被引量:17
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作者 林楠 杨文河 +5 位作者 陈韫懿 魏鑫 王成 赵娇玲 彭宇杰 冷雨欣 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2022年第9期15-34,共20页
随着芯片特征尺寸的不断减小,借助193 nm准分子光源的浸没式深紫外光刻技术已进入瓶颈,使用多次曝光技术的工艺路线也已到达目前的商用极限。极紫外光刻(EUVL)采用13.5 nm的极紫外光源,被认为是下一代光刻商用化路线必需的技术。综述了... 随着芯片特征尺寸的不断减小,借助193 nm准分子光源的浸没式深紫外光刻技术已进入瓶颈,使用多次曝光技术的工艺路线也已到达目前的商用极限。极紫外光刻(EUVL)采用13.5 nm的极紫外光源,被认为是下一代光刻商用化路线必需的技术。综述了激光等离子体13.5 nm EUVL光源的原理和最新进展,分别从驱动光源、靶材、收集镜等关键子系统展开介绍。讨论了激光等离子体光源进一步发展过程中需要解决的问题,如提升激发光功率、提高转换效率及延长光源寿命,特别分析了日本Gigaphoton公司和荷兰ASML公司的EUVL光源装置。 展开更多
关键词 光学设计 极紫外光源 激光等离子体 转换效率 光源碎屑
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A Model for Extreme Ultraviolet Radiation Conversion Efficiency From Laser Produced Mass-Limited Tin-Based Droplet Target Plasmas
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作者 吴涛 王新兵 +1 位作者 余仕成 熊伦 《Communications in Theoretical Physics》 SCIE CAS CSCD 2012年第4期695-700,共6页
Simple arguments are used to construct a model to explain the extreme ultraviolet radiation conversion efficiency(EUV-CE) of a tin-based droplet target laser produced plasmas by calculating the laser absorption effici... Simple arguments are used to construct a model to explain the extreme ultraviolet radiation conversion efficiency(EUV-CE) of a tin-based droplet target laser produced plasmas by calculating the laser absorption efficiency,radiation efficiency,and spectral efficiency.The dependence of drive laser pulse duration and laser intensity on EUV-CE is investigated.The results show that at some appropriate laser intensity,where the sum energy of the thermal conduction,out-off band radiation and plasma plume kinetic losses is at a minimum,the EUV-CE should reach a maximum.The EUV-CE predicted by the present simple model is also compared with the available experimental and simulation data and a fair agreement between them is found. 展开更多
关键词 conversion efficiency laser produced plasma extreme ultraviolet lithography
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