软X光激光Sn衰减膜的制备及测量

采用磁控溅射方法制备了 Ｓｎ 衰减膜。应用真空α能谱测厚仪和αｓｔｅｐ １００ 台阶仪分别测得 Ｓｎ 衰减膜的质量厚度为４５０．３ μｇ／ｃｍ ２，表面不均匀性＜ ３ ％ 。质量厚度和表面均匀性的测试结果均符合软 Ｘ 光激光实验的要求。利用俄歇电子能谱对 Ｓｎ 膜表面杂质及表面氧化情况并结合 Ａｒ 离子束刻蚀对氧含量深度分布情况进行了分析。分析结果表明： Ｓｎ 膜暴露在空气中而氧化生成一定厚度的氧化层，其主要成分是 Ｓｎ Ｏ２ 和 Ｓｎ２ Ｏ３。