-
题名考虑MOS效应的锥型硅通孔寄生电容解析模型
被引量:3
- 1
-
-
作者
杨银堂
王凤娟
朱樟明
刘晓贤
丁瑞雪
-
机构
西安电子科技大学宽禁带半导体材料与器件重点实验室
-
出处
《电子与信息学报》
EI
CSCD
北大核心
2013年第12期3011-3017,共7页
-
基金
国家自然科学基金(61006028
61204044)资助课题
-
文摘
该文采用求解泊松方程等数学方法,提出了考虑MOS效应的锥型硅通孔(TSV)寄生电容解析模型。基于铜材料TSV,对比了解析模型与Ansoft Q3D参数提取模型,得出在偏置电压为-0.4 V,0.5 V和1.0 V时,对于锥型TSV侧面倾角为75°,80°,85°和90°4种情况,多个参数变化时解析模型最大均方根误差分别为6.12%,4.37%,3.34%和4.84%,忽略MOS效应时,最大均方根误差分别达到210.42%,214.81%,214.52%和211.47%,验证了该解析模型的准确性和考虑MOS效应的必要性。Ansoft HFSS仿真结果表明,考虑MOS效应以后11S的最大减幅大约为19 dB,21S的最大增幅大约为0.01 dB,锥型TSV的传输性能得到改善。
-
关键词
集成电路
锥型硅通孔
寄生电容
MOS效应
泊松方程
-
Keywords
Integrated circuit
Tapered Through-Silicon-Vias (TSV)
Parasitic capacitance
MOS effect
Poisson's equation
-
分类号
TN402
[电子电信—微电子学与固体电子学]
-