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题名再论多层印制板金属化孔镀层空洞
被引量:1
- 1
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作者
杨维生
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机构
南京电子技术研究所
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出处
《电子电路与贴装》
2002年第6期9-19,共11页
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文摘
分析了金属化孔镀层空洞的主要产生原因,从各主要工序出发,提出了如何优化工艺参数行严格的工艺及质量控制,以保证孔化质量的方法。
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关键词
多层印制板
金属化孔镀层空洞
空洞缺陷
优化工艺参数
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分类号
TN305.6
[电子电信—物理电子学]
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题名多层印制板金属化孔镀层空洞研究
被引量:2
- 2
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作者
迟海蓉
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机构
中国工程物理研究院电子工程研究所
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出处
《电子工艺技术》
2004年第6期258-260,共3页
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文摘
多层印制板的制作是一个生产工序复杂且周期很长的过程,那么造成金属化孔镀层空洞的原因也就很复杂。这里本人通过试验,分析了针对我们的生产工艺路线及设备配置运行情况出现的金属化孔镀层空洞的主要产生原因,从产生原因的工序出发,提出了如何优化工艺参数,进行严格的工艺及质量控制,以保证孔金属化的质量。
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关键词
金属化孔镀层空洞
多层印制板
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Keywords
Void PTH
Multilayer printed board
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分类号
TN41
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名印制板孔内镀层空洞原因分析
- 3
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作者
卢大伟
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机构
中航工业洛阳第六一三研究所
洛阳伟信电子科技有限公司
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出处
《印制电路信息》
2012年第2期22-25,63,共5页
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文摘
按照印制板生产工艺步骤顺序来研究在何处可能出现孔内空洞现象,对存在有缺陷的印制板用金相剖切的方法,进行原因查找和缺陷分析,如识别空洞形状、位置等,并指出采取的方法措施,达到提升生产线加工能力和品质目的。
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关键词
化学沉铜
孔壁镀层空洞
图形电镀
电镀分散能力
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Keywords
Electroless copper
Hole-wall voids
Pattern plating
Plate-throwing power
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分类号
TN41
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名PCB镀通孔发生“空洞”的根本原因和对策
被引量:8
- 4
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作者
林金堵
吴梅珠
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出处
《印制电路信息》
2010年第4期31-36,共6页
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文摘
文章概述了多层板镀通孔发生"空洞"的根本原因与对策。基材、钻孔、孔壁粗糙度、孔尺寸、化学镀铜和电镀铜等都会影响PTH的"空洞"问题。
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关键词
镀通孔
镀层“空洞”
镀层附着力
高性能基材
孔壁表面状态
化学镀铜
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Keywords
PTH(Plated Through-Hole)
hole-wall voids
hole-wall adhesion
high-performancesubstrate
hole-wall topography
electroless copper
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分类号
TN41
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名PCB&PCBA-PTH失效原因分析
被引量:6
- 5
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作者
饶丹丹
楼倩
杨文静
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机构
工业和信息化部电子第五研究所华东分所
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出处
《电子产品可靠性与环境试验》
2015年第1期11-14,共4页
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文摘
介绍了一个典型的印刷电路板(PCB)失效原因分析的案例。该PCB经过波峰焊后因油墨塞孔导致孔壁断裂而失效。分析结果表明:孔壁镀层中存在的柱状结晶及镀层空洞削弱了孔铜镀层的延展性及抗拉强度,这是导致在随后的焊接工艺过程中承受不住相对较大的膨胀应力而发生孔铜镀层断裂失效的主要原因;PCB本身相对较大的膨胀系数也是导致孔铜断裂的原因之一。
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关键词
印刷电路板
失效分析
孔断
柱状结晶
镀层空洞
膨胀系数
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Keywords
PCB
failure analysis
hole crack
columnar crystal
plating cavity
Z-CTE
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分类号
TN41
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名基于再流焊技术的导通镀覆孔透锡工艺研究
- 6
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作者
孙亚芬
曹凯
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机构
西安北方光电科技防务有限公司
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出处
《新技术新工艺》
2016年第9期81-83,共3页
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文摘
针对印制线路板潜在的铜镀层不连续或铜镀层空洞现象,研究了基于再流焊技术的导通镀覆孔透锡工艺及实现流程。经工艺试验验证,取得了良好的效果,并具有一致性好、可靠性高等优点,为某些高可靠性产品需求提供了实用价值较高的借鉴经验。
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关键词
镀层空洞
再流焊技术
透锡工艺
印刷钢网模板
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Keywords
coating void, reflow soldering technology, tin-process, printing metal stencil
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分类号
TJ760.5
[兵器科学与技术—武器系统与运用工程]
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题名超薄芯板水平填通孔工艺探究
被引量:2
- 7
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作者
雷克武
吴道俊
姚晓建
钱国祥
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机构
广州美维电子有限公司
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出处
《印制电路信息》
2021年第S02期123-130,共8页
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文摘
随着电子产品朝轻薄微型化发展,进而对线路板的填孔提出了更高的要求。文章在高铜低酸药水体系下,利用脉冲电镀及填通孔药水,研究芯板厚度50.8μm至88.9μm在不同通孔孔径的填孔品质。在芯板厚度63.5μm时,镀层凹陷值随着孔径的增大而变大,镀层空洞随着孔径的增大而降低。对电流密度、泵频率、光亮剂、整平剂浓度和线速因子进行正交田口实验设计探究镀层凹陷与镀层的空洞的影响。DOE(Design of Experiment)实验结果表明,填通孔镀层凹陷与光亮剂浓度、电流密度具有负相关性,与线速具有正相关性。镀层空洞与电流密度正相关,与泵频率具有负相关性。当芯板厚度50.8μm时,填通孔参数为:填通孔电流密度为5.0 A/dm^(2),泵频率设置为40 Hz,线速1.3 m/min。镀层空洞在孔径60至100μm镀层无空洞,镀层凹陷值小于10μm。当芯板厚度88.9μm时,填通孔参数为:填通孔电流密度为4.5 A/dm^(2),泵频率设置为44 Hz,线速0.65 m/min。镀层空洞在孔径80至100μm镀层无空洞。镀层凹陷值均小于10μm。热应力在288℃条件下,10次热冲击无孔壁分离。超薄芯板通过提升不同孔径的填通孔能力,从而适应PCB朝轻薄、精细化的发展方向。
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关键词
填通孔
脉冲电镀
镀层凹陷
镀层空洞
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Keywords
Filling Through Hole
Pulse Plating
Dimple
Void
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分类号
TQ153.14
[化学工程—电化学工业]
TN41
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名论干膜垂流的影响及改善
被引量:1
- 8
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作者
唐昌胜
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机构
深南电路股份有限公司
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出处
《印制电路信息》
2015年第11期44-47,共4页
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文摘
未经过曝光的干膜具有一定的流动性,这种流动主要表现为:板件竖放时干膜向下流动,板件平放时干膜向孔内流动,通常称之为干膜垂流。当干膜垂流超过一定限度时,会增加开路、短路和镀层空洞的风险,本文就干膜垂流的影响因素及改善进行阐述。
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关键词
干膜垂流
开路
短路
镀层空洞
改善
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Keywords
The Dry Film Vertical Flowing
Opening
Short
Plating Cavity
Improve
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分类号
TN41
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名论干膜垂流的影响及改善
- 9
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作者
唐昌胜
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机构
深南电路一厂技术部
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出处
《印制电路信息》
2015年第A01期107-113,共7页
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文摘
未经过曝光的干膜具有一定的流动性,这种流动主要表现为:板件竖放时干膜向下流动,板件平放时干膜向孔内流动,通常称之为干膜垂流。当干膜垂流超过一定限度时,会增加开路、短路和镀层空洞的风险,文章将对干膜垂流的影响因素及改善进行阐述。
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关键词
干膜垂流
开路
短路
镀层空洞
改善
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Keywords
The Dry Film Vertical Flowing
Opening
Short
Plating Cavity Improve
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分类号
TN41
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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