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镀液杂质的去除
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作者 蒋雄 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 1989年第1期16-20,共5页
众所周知,镀液的科学管理和维护对于稳定生产和保证产品质量是十分重要的。镀液的科学管理和维护的一个重要方面,就是监测镀液被杂质的污染,随耐除去杂质,保证正常生产。镀液在配制和使用过程中会受到杂质的污染。这些杂质可来自以下几... 众所周知,镀液的科学管理和维护对于稳定生产和保证产品质量是十分重要的。镀液的科学管理和维护的一个重要方面,就是监测镀液被杂质的污染,随耐除去杂质,保证正常生产。镀液在配制和使用过程中会受到杂质的污染。这些杂质可来自以下几方面:(1)阳极。电镀中因阳极不纯而带入杂质的情况常会遇见。不纯锌阳极常混有铅,镍阳极中会含有微量铜。(2)化学药品。电镀中采用的化学药品多半为工业级,含杂质的允许范围较大。所以在选购时要注意规格,以便在配制镀液时对症下药,加以处理。有时,工厂生产中的意外事故也会给原料带进意想不到的杂质。例如,工业碱是用熔盐膜式蒸发器生产的。 展开更多
关键词 镀液杂质 去除
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工艺条件及镀液杂质对瓦特镍镀层内应力的影响 被引量:4
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作者 胡维 王春霞 +1 位作者 周佑明 胡小萍 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2016年第4期26-28,35,共4页
为控制生产中瓦特镍镀层的内应力,利用条形阴极法测试了镀液的温度、pH及镀液中的杂质等对瓦特镍镀层内应力的影响。结果表明,镀镍液θ为50℃,pH为4.0时,镀层内应力最小;随着镀液中Cu^(2+)、Zn^(2+)金属杂质含量的增加,镀层内应力均增加... 为控制生产中瓦特镍镀层的内应力,利用条形阴极法测试了镀液的温度、pH及镀液中的杂质等对瓦特镍镀层内应力的影响。结果表明,镀镍液θ为50℃,pH为4.0时,镀层内应力最小;随着镀液中Cu^(2+)、Zn^(2+)金属杂质含量的增加,镀层内应力均增加;另外,在生产中为降低镀层的内应力,还需严格控制硫酸镍品质。 展开更多
关键词 条件 镀液杂质 内应力 条形阴极法 镍层
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光亮镀镍液中杂质元素的电感耦合等离子体质谱法测定 被引量:2
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作者 聂西度 黄可龙 谢华林 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2011年第5期72-73,85,共2页
电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)易于进行多元素分析,检出限低,应用广泛。适当选择待测元素的同位素来克服质谱干扰,以Sc,Y,Bi作为内标元素来补偿基体效应,用ICP—MS法测定了光亮镀镍液中Mg,Al,Cr,Mn,Fe,Cu,zn,Pb8种杂质... 电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)易于进行多元素分析,检出限低,应用广泛。适当选择待测元素的同位素来克服质谱干扰,以Sc,Y,Bi作为内标元素来补偿基体效应,用ICP—MS法测定了光亮镀镍液中Mg,Al,Cr,Mn,Fe,Cu,zn,Pb8种杂质元素。结果表明:8种微量金属元素的检出限在0.008-0.340μg/L,回收率在95.85%-104.38%之间,相对标准偏差小于2.43%;该方法准确、快速、简便,满足光亮镀镍液中微量金属元素的测定分析要求。 展开更多
关键词 镀液杂质 测定分析 电感耦合等离子体质谱 光亮 检出限 内标元素
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镀铬故障处理(二)
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《国际表面处理》 2000年第5期94-97,共4页
关键词 故障处理 节瘤 镀液杂质 条件
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