磁化镀液化学镀层的微观结构

镀液磁化得到的Ｎｉ－Ｐ化学镀层组织致密，孔隙也较少，经光学金相及透射电镜分析为Ｎｉ２Ｐ、Ｎｉ７Ｐ３、Ｎｉ１２Ｐ５等组成的晶体组织。

化学镀Ni-P工艺在制药设备上的应用

在制药设备上使用了化学镀Ni-P工艺。给出了2种工艺流程并确定了镀液配方。研究了温度、前处理对施镀的影响。结果表明，最佳施镀温度为[（85～90）±2]℃，镀件冲击镀镍及镀液磁化均可取得良好的效果。该方法得到的镀层结构致密、孔隙率低、耐蚀性强、结合力好、硬度高。