磁控溅射工艺参数对钛金属镀膜涤纶织物耐磨性的研究

为了研究磁控溅射镀膜工艺参数对镀膜织物耐磨性的影响,以涤纶织物为基材,采用磁控溅射工艺,在不同镀膜时间、不同镀膜压强、不同镀膜功率下对涤纶织物进行镀钛,然后对镀膜织物进行摩擦处理,通过显微镜观察,分析镀膜工艺参数对耐磨性的影响。实验研究表明,镀膜织物的耐磨性与摩擦次数的有关,摩擦次数越多,镀膜织物耐磨性越强。随着镀膜时间的增加,镀膜织物的耐磨性越强;随着镀膜压强的增加,镀膜织物的耐磨性在0.8 Pa时,达到最大。随着镀膜功率的增加,镀膜织物的耐磨性逐渐增强。

基于Windows Mobile的半导体CVD监控系统的设计与实现

CVD(化学气相沉积)镀膜是半导体生产的关键步骤,沉积过程中对工艺参数、调度信息的管理非常重要。本文根据CVD生产的需求,以Visual C++2005为开发平台,在Windows Mobile平台实现了晶圆化学气相沉积工艺参数的无线实时监控管理,其无线监控特性使操作者避免了现场的有毒气体吸入。

基于含楔角非线性晶体的高纠缠度纠缠源

连续变量Einstein-Podolsky-Rosen纠缠态光场可由工作在阈值以下的非简并光学参量放大器获得,输入耦合镜、输出耦合镜及非线性晶体等光学元件对于偏振方向相互垂直的两束光场的镀膜参数存在差异,具体表现为输出耦合镜的光学镀膜对偏振方向相互垂直的输出光场的透射率不同。结合实验,详细讨论了镀膜参数差异对纠缠度的影响,为进一步提高纠缠态光场的纠缠度提供了参考。