浅析PVD镀膜机设备的镀膜方式

近几年随着社会的发展,越来越多的设备被应用于各行各业,在镀膜过程中也越来越多的厂家开始采用PVD镀膜机设备,加上这种镀膜设备的局限性小,因此这种镀膜工艺的应用范围越来越广,但是人们对于PVD镀膜机设备的了解少之又少,本文就为浅析关于PVD镀膜机设备的镀膜方式,以此帮助大家更好的了解和掌握PVD镀膜机设备。

原子层沉积及其在透明导电薄膜领域的研究与应用

集成电路行业器件尺寸不断缩小,表面更复杂,对镀膜提出了更高的要求,而原子层沉积因其保形性和自限制生长的优势而获得了广泛的关注和研究。本文在简要介绍一些常用的镀膜方式基础上,对原子层沉积原理及自限制生长进行了重点介绍。以氧化铟为代表,通过对比分析说明原子层沉积制备薄膜在形貌、成分等方面的优越性,对不同方式制备的常见透明导电薄膜的光电性能进行了总结。详细讨论了原子层沉积的应用范围,包括在大尺寸基底,如大平面和大曲率基底上可以制备高质量薄膜,在小尺寸基底,如粉体、沟槽、微纳结构上仍然有着超高的保形性。最后对原子层沉积制备薄膜的优势进行了总结,对其独特的发展潜力进行了展望。

基于LED器件的纳米粗化ITO薄膜研究

采用磁控溅射和离子辅助沉积等方式制作多种ITO薄膜。结果发现LED器件电压主要受底部膜层沉积方式和第二段退火条件的影响。另外,膜层的最终表面对光萃取有显著影响,结合离子辅助蒸镀技术,可获得更优光萃效果的纳米粗化表面,其中溅射200Å厚度搭配蒸镀100Å厚度的ITO复合膜系,经二次退火后具有最佳特性。